成膜装置および成膜方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)： SK特許業務法人 , 奥野彰彦 , 伊藤寛之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-023488
公開番号（公開出願番号）：特開2016-146442
出願日： 2015年02月09日
公開日（公表日）： 2016年08月12日
要約：

【課題】成膜レートに優れ、ミストCVD法が適用可能な成膜装置を提供する。【解決手段】原料溶液を霧化または液滴化する霧化・液滴化部、前記霧化・液滴化部で発生したミストまたは液滴をキャリアガスでもって基体まで搬送する搬送部、および該ミストまたは該液滴を熱処理して該基体上に成膜する成膜部を備えている成膜装置であって、成膜部が、円筒状であり、成膜部の側面に、前記ミストまたは前記液滴の搬入口が設けられていて、前記ミストまたは前記液滴を旋回させて旋回流を発生させるように構成されており、成膜部上面に排気口を有している。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

原料溶液を霧化または液滴化する霧化・液滴化部、前記霧化・液滴化部で発生したミストまたは液滴をキャリアガスでもって基体まで搬送する搬送部、および該ミストまたは該液滴を熱処理して該基体上に成膜する成膜部を備える成膜装置において、成膜部が、前記ミストまたは前記液滴を旋回させて旋回流を発生させる手段を具備することを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

H01L 21/365 , C23C 16/448 , C30B 25/14

FI (3件)：

H01L21/365 , C23C16/448 , C30B25/14

Fターム (63件)：

4G077AA03 , 4G077BB10 , 4G077DB05 , 4G077DB11 , 4G077EC01 , 4G077EG03 , 4G077EG16 , 4G077EG21 , 4G077EG24 , 4G077HA06 , 4G077TA04 , 4G077TA08 , 4G077TA11 , 4G077TA12 , 4G077TB03 , 4G077TC01 , 4G077TC04 , 4G077TE01 , 4G077TE05 , 4G077TF02 , 4G077TG01 , 4G077TH02 , 4G077TH06 , 4G077TH07 , 4K030AA02 , 4K030AA14 , 4K030BA08 , 4K030BA42 , 4K030BA43 , 4K030BB01 , 4K030CA05 , 4K030CA12 , 4K030EA01 , 4K030EA06 , 4K030EA08 , 4K030EA11 , 4K030FA10 , 4K030GA02 , 4K030JA10 , 4K030KA09 , 4K030KA24 , 4K030KA49 , 4K030LA12 , 5F045AA03 , 5F045AB40 , 5F045AD09 , 5F045AE29 , 5F045AF09 , 5F045BB01 , 5F045BB08 , 5F045BB09 , 5F045DP01 , 5F045DP02 , 5F045DP03 , 5F045DP04 , 5F045EE02 , 5F045EE03 , 5F045EE14 , 5F045EE20 , 5F045EF20 , 5F045GB11 , 5F045GB13 , 5F045GB19

引用特許：

審査官引用 (5件)

薄膜形成方法及び装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-179978 出願人：太陽誘電株式会社
特開平3-281781
特開平3-105914

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