ポジ型レジスト組成物及びその製造方法、並びに、当該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターンの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：岸本達人 , 山下昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-135036
公開番号（公開出願番号）：特開2016-012104
出願日： 2014年06月30日
公開日（公表日）： 2016年01月21日
要約：

【課題】パターン欠損が抑制された十数nmスケールの超微細パターンを形成可能な程、高い解像力を有するポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】下記一般式(I)で表され、重量平均分子量(Mw)が9,500〜35,000であり、且つ数平均分子量(Mn)に対する重量平均分子量(Mw)で表される分子量分布(Mw/Mn)が1.05〜1.25である共重合体(A)、及び溶剤(B)を含有する、ポジ型レジスト組成物である。(一般式(I)における符号は、明細書に記載の通りである。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表され、重量平均分子量(Mw)が9,500〜35,000であり、且つ数平均分子量(Mn)に対する重量平均分子量(Mw)で表される分子量分布(Mw/Mn)が1.05〜1.25である共重合体(A)、及び溶剤(B)を含有する、ポジ型レジスト組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 , G03F 7/004 , G03F 7/32 , H01L 21/027 , C08F 220/12

FI (5件)：

G03F7/039 501 , G03F7/004 501 , G03F7/32 , H01L21/30 502R , C08F220/12

Fターム (41件)：

2H125AH17 , 2H125AH21 , 2H125AJ14X , 2H125AJ74X , 2H125AM14P , 2H125AM23P , 2H125AM30P , 2H125AN10P , 2H125AN31P , 2H125AN32P , 2H125AN61P , 2H125AN84P , 2H125CA12 , 2H125CB16 , 2H125CC03 , 2H125CC20 , 2H125CD02P , 2H125CD08P , 2H125CD09P , 2H125CD12P , 2H125CD37 , 2H125CD40 , 2H125FA05 , 2H196AA25 , 2H196AA30 , 2H196BA11 , 2H196GA03 , 2H196GA06 , 4J100AB03P , 4J100AB08P , 4J100AL08P , 4J100AL24Q , 4J100AL26Q , 4J100BB01Q , 4J100BC09P , 4J100BC37P , 4J100BC43Q , 4J100CA04 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (7件)

化学増幅型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-274195 出願人：東京応化工業株式会社
ポジ型感光性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-255438 出願人：東レ株式会社
特開昭63-137227

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