特許
J-GLOBAL ID：201603012406301850

インプリント装置、および物品の製造方法

発明者：
若林 浩平

若林 浩平 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-080345
公開番号（公開出願番号）：特開2016-201455
出願日： 2015年04月09日
公開日（公表日）： 2016年12月01日
要約：
【課題】スループットの点で有利なインプリント装置を提供する。【解決手段】基板上に供給されたインプリント材をモールドを用いて成形するインプリント装置は、前記モールドおよび前記基板のうち少なくとも一方を、他方に向かって突出した凸形状を有するように変形させる変形部と、前記少なくとも一方が変形した状態で前記モールドと前記インプリント材との接触を開始させ、前記少なくとも一方の変形を徐々に小さくすることにより前記モールドと前記インプリント材との接触面積を徐々に拡大させる処理を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記モールドと前記インプリント材への接触を開始したときの前記モールドと前記基板との位置関係が、前記接触面積を拡大させている間において維持されるように、前記変形部による前記少なくとも一方の変形量に基づいて前記モールドと前記基板との相対位置を制御する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に供給されたインプリント材をモールドを用いて成形するインプリント装置であって、 前記モールドおよび前記基板のうち少なくとも一方を、他方に向かって突出した凸形状を有するように変形させる変形部と、 前記少なくとも一方が変形した状態で前記モールドと前記インプリント材との接触を開始させ、前記少なくとも一方の変形量を徐々に小さくすることにより前記モールドと前記インプリント材との接触面積を徐々に拡大させる処理を制御する制御部と、 を含み、 前記制御部は、前記モールドと前記インプリント材への接触を開始したときの前記モールドと前記基板との位置関係が、前記接触面積を拡大させている間において維持されるように、前記変形部による前記少なくとも一方の変形量に基づいて前記モールドと前記基板との相対位置を制御する、ことを特徴とするインプリント装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (18件)：
4F209AA36 ,  4F209AA44 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AJ06 ,  4F209AR07 ,  4F209AR12 ,  4F209AR20 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PN03 ,  4F209PN09 ,  4F209PQ11 ,  5F146AA31 ,  5F146AA32
引用特許：
出願人引用 (9件)
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審査官引用 (9件)
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