特許
J-GLOBAL ID:201603014261929513

液体処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 菊池 新一 ,  菊池 徹 ,  松本 英俊
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-552135
公開番号(公開出願番号):特表2016-502931
出願日: 2013年01月08日
公開日(公表日): 2016年02月01日
要約:
液体処理装置は、液体を受け取って流す液体の流路26とプラズマ発生手段とを含み、プラズマ発生手段は流路26を流れる液体の表面と接触するように流路上方の気相中にプラズマフィールドを生成するように構成され、プラズマフィールフドは液体に作用してその不純物が固形の不溶性物質を形成し、この物質は、公知の濾過方法によって液体から除去される。プラズマ発生手段は陽極を形成する少なくとも1つの電極40とこの電極40から間隔をあけて配置された少なくとも1つの陰極24とを含み、電極40は、液体が流路26を流れる際、電極40が気相内で液体の表面の上方にあるように配置され、少なくとも1つの陰極24は、液体が流路内を流れる際に、プラズマフィールドが気相内に発生して液体の表面まで延びその表面に接触するように、液体の表面の下方に少なくとも部分的に沈むように配置されている。【選択図】図1
請求項(抜粋):
液体を受け取ってこの液体を流すように構成された液体流路とプラズマ発生手段とを含み、前記プラズマ発生手段は、前記液体流路を通って流れる液体の表面と接触するように前記液体流路の上方の気相中にプラズマフィールドを生成するように構成されている液体処理装置。
IPC (1件):
C02F 1/48
FI (1件):
C02F1/48 B
Fターム (16件):
4D061DA02 ,  4D061DA08 ,  4D061DB09 ,  4D061DB18 ,  4D061DC16 ,  4D061DC22 ,  4D061DC23 ,  4D061EA13 ,  4D061EB07 ,  4D061EB16 ,  4D061EB20 ,  4D061EB28 ,  4D061EB37 ,  4D061EB39 ,  4D061GA04 ,  4D061GC02
引用特許:
審査官引用 (6件)
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