特許
J-GLOBAL ID：201603016412896160

極紫外光源のためのビューポートプロテクタ

発明者：
セネケリムヤン ヴァハン

セネケリムヤン ヴァハン について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-540706
公開番号（公開出願番号）：特表2016-505863
出願日： 2013年10月22日
公開日（公表日）： 2016年02月25日
要約：
真空チャンバのビューポートのためのプロテクタは、増幅光ビームの波長を有する放射線と増幅光ビームによってイオン化された時にEUV光を生成するターゲット材料の発光スペクトルに含まれる波長とを有する放射線を吸収する基板材料を含む。基板材料は、可視光又は近赤外光の1つ又はそれよりも多くを透過する。プロテクタはまた、基板材料上に形成された層を含み、層は、増幅光ビームの波長を有する放射線を反射する。【選択図】 図2A
請求項（抜粋）：
増幅光ビームの波長を有する放射線と該増幅光ビームによってイオン化された時にEUV光を生成するターゲット材料の発光スペクトルに含まれる波長を有する放射線とを吸収し、かつ可視光又は近赤外光の1つ又はそれよりも多くを透過する基板材料、及び 前記基板材料上に形成され、前記増幅光ビームの前記波長を有する放射線を反射する層、 を含む、真空チャンバのビューポートのためのプロテクタと、 前記層が前記真空チャンバの内部に向く状態で前記プロテクタを保持するマウントと、 を含むことを特徴とするアセンブリ。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ,  G02B 5/20
FI (3件)：
G03F7/20 503 ,  G03F7/20 521 ,  G02B5/20
Fターム (11件)：
2H148AA01 ,  2H148AA12 ,  2H148AA18 ,  2H197BA05 ,  2H197CA10 ,  2H197GA01 ,  2H197GA05 ,  2H197GA09 ,  2H197GA24 ,  2H197GA30 ,  2H197HA03
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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