特許
J-GLOBAL ID：201103007654283476

極端紫外光源装置

発明者：
渡辺 幸雄

渡辺 幸雄 について

, 
若林 理

若林 理 について

, 
五十嵐 美和

五十嵐 美和 について


出願人/特許権者：
ギガフォトン株式会社

ギガフォトン株式会社 について


代理人 (4件)： 宇都宮 正明 ,  保坂 延寿 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-089478
公開番号（公開出願番号）：特開2011-135028
出願日： 2010年04月08日
公開日（公表日）： 2011年07月07日
要約：
【課題】異なる処理装置の仕様に対してEUVチャンバの仕様変更を少なくすることができるEUV光源装置を提供する。【解決手段】極端紫外光を用いて処理を行う処理装置に極端紫外光を供給する極端紫外光源装置であって、処理装置に供給するための極端紫外光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内において生成された極端紫外光を集光して前記処理装置に出射する集光ミラーと、チャンバと処理装置との間において極端紫外光の経路を画定するとともに、極端紫外光の経路を外部から隔離する光路接続モジュールとを具備する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
極端紫外光を用いて処理を行う処理装置に極端紫外光を供給する極端紫外光源装置であって、 前記処理装置に供給するための極端紫外光の生成が行われるチャンバと、 前記チャンバ内において生成された極端紫外光を集光して前記処理装置に出射する集光ミラーと、 前記チャンバと前記処理装置との間において極端紫外光の経路を画定するとともに、前記極端紫外光の経路を外部から隔離する光路接続モジュールと、 を具備する極端紫外光源装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  H05G 2/00
FI (2件)：
H01L21/30 531S ,  H05G1/00 K
Fターム (14件)：
4C092AA06 ,  4C092AB27 ,  4C092AB30 ,  4C092AC09 ,  4C092BD13 ,  4C092BD14 ,  5F046AA08 ,  5F046GB04 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03 ,  5F146AA08 ,  5F146GB04 ,  5F146GB09 ,  5F146GC11
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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