特許
J-GLOBAL ID：201603016627167827
発光素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-261997
公開番号（公開出願番号）：特開2016-029635
出願日： 2014年12月25日
公開日（公表日）： 2016年03月03日
要約：
【課題】発光効率に優れる発光素子の製造方法を提供する。【解決手段】陽極と、陰極と、陽極および陰極の間に設けられた発光層と、封止層とを有する発光素子の製造方法であって、発光層を、中心金属がイリジウム原子であるイリジウム錯体等を用いて塗布法により形成する工程と、陽極または陰極を形成する工程と、封止層を形成する工程とを含み、発光層を形成する工程の開始時から封止層を形成する工程の終了時までの間における製造中の発光素子がオゾンに曝露される際の、オゾン濃度の平均値:A(ppb)と、時間:B(分)とが、式(1-1)を満たす、発光素子の製造方法。 0≦A×B≦1000 (1-1)【選択図】図1
請求項（抜粋）：
陽極と、
陰極と、
陽極および陰極の間に設けられた発光層と、
封止層とを有する発光素子の製造方法であって、
発光層を、中心金属がイリジウム原子であるイリジウム錯体、または、中心金属がイリジウム原子であるイリジウム錯体から誘導される構成単位を含む高分子化合物を用いて塗布法により形成する工程と、
陽極または陰極を形成する工程と、
封止層を形成する工程とを含み、
発光層を形成する工程の開始時から封止層を形成する工程の終了時までの間における製造中の発光素子がオゾンに曝露される際の、オゾン濃度の平均値:A(ppb)と、時間:B(分)とが、式(1-1)を満たす、発光素子の製造方法。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H01L 51/50
, H05B 33/04
H05B33/10
, H05B33/14 B
, H05B33/04
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107BB02
, 3K107BB03
, 3K107CC04
, 3K107CC21
, 3K107CC23
, 3K107DD60
, 3K107DD64
, 3K107DD67
, 3K107DD70
, 3K107EE42
, 3K107EE46
, 3K107FF14
, 3K107FF17
, 3K107GG06
, 3K107GG28
審査官引用 (3件)
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有機EL素子の製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2008-299552
出願人：シャープ株式会社
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発光装置の作製方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2013-096260
出願人：株式会社半導体エネルギー研究所
-
発光素子の製造方法
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-040971
出願人：三菱電機株式会社
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