特許
J-GLOBAL ID：201603017253964872

基板処理装置、及び基板処理方法

発明者：
五十嵐 純一

五十嵐 純一 について

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佐藤 勝広

佐藤 勝広 について

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森田 恵子

森田 恵子 について

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平林 英明

平林 英明 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 サトー国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-148780
公開番号（公開出願番号）：特開2016-025233
出願日： 2014年07月22日
公開日（公表日）： 2016年02月08日
要約：
【課題】昇華性物質を用いた基板の乾燥工程において、その乾燥工程の過程又は終点を適切に判断する。【解決手段】基板処理装置は、基板を収容することが可能な処理室と、処理室内に設けられ基板を保持することが可能な基板保持部と、基板保持部に保持された基板であって表面に複数の構造物を有しその構造物間に昇華性物質が充填された基板について昇華性物質を昇華除去する昇華除去手段と、昇華性物質の昇華除去の過程又は終点を検出する昇華状態検出手段と、を備える。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板を収容することが可能な処理室と、 前記処理室内に設けられ前記基板を保持することが可能な基板保持部と、 前記基板保持部に保持された前記基板であって表面に複数の構造物を有しその構造物間に昇華性物質が充填された前記基板について前記昇華性物質を昇華除去する昇華除去手段と、 前記昇華性物質の昇華除去の過程又は終点を検出する昇華状態検出手段と、 を備える基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  G01N 27/62
FI (3件)：
H01L21/304 651M ,  G01N27/62 M ,  H01L21/304 648G
Fターム (35件)：
2G041CA04 ,  2G041EA05 ,  2G041FA07 ,  2G041GA17 ,  5F157AA09 ,  5F157AA71 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB03 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB90 ,  5F157AC03 ,  5F157AC15 ,  5F157AC26 ,  5F157BB22 ,  5F157BH18 ,  5F157CB03 ,  5F157CB11 ,  5F157CB22 ,  5F157CB29 ,  5F157CB32 ,  5F157CD02 ,  5F157CE03 ,  5F157CE08 ,  5F157CE23 ,  5F157CE61 ,  5F157CE63 ,  5F157CF04 ,  5F157CF34 ,  5F157CF42 ,  5F157CF92 ,  5F157DA21 ,  5F157DB37 ,  5F157DB47
引用特許：
審査官引用 (9件)
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