特許
J-GLOBAL ID：201603017620346854
レジスト下層膜形成組成物
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
萼 経夫
, 宮崎 嘉夫
, 加藤 勉
, 伴 知篤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-022760
公開番号（公開出願番号）：特開2016-128925
出願日： 2016年02月09日
公開日（公表日）： 2016年07月14日
要約：
【課題】レジスト下層膜形成組成物を提供すること。【解決手段】下記式(0):(式中、Rはアルキル基、シリル基、ハロアルキル基、又はアルキル基、ハロアルキル基及びハロゲノ基の少なくとも1種で置換されていてもよい、フェニル基、ナフチル基若しくはアントリル基を表し、Xはハロゲノ基で置換されていてもよいアルキル基、ビニル基、アリル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、アルキルチオ基、シアノ基、アセチル基、アセチルオキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、ニトロソ基、アミド基、イミド基、アルコキシスルホニル基、スルホンアミド基、又はアルキル基、ハロアルキル基及びハロゲノ基の少なくとも1種で置換されていてもよい、フェニル基、ナフチル基、アントリル基若しくはピレニル基を表し、pは2又は3を表す。)で表される化合物を含むことを特徴とするレジスト下層膜形成組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記式(0):
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/11 503
, H01L21/30 573
