特許
J-GLOBAL ID:201603017944744208

磁性細線装置、及び磁性細線搭載基板の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人磯野国際特許商標事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-254005
公開番号(公開出願番号):特開2016-114813
出願日: 2014年12月16日
公開日(公表日): 2016年06月23日
要約:
【課題】シフト移動後の磁区を所望の位置に確実に停止させて、かつ、隣り合う磁性細線の磁気的影響を受けずに磁区の移動がスムーズである磁性細線装置、及び磁性細線搭載基板の製造方法を提供する。【解決手段】各磁性細線1のそれぞれ複数個所に設けられ、電子の移動により磁性細線1中をシフト移動する磁区をトラップする凹部1cを備えている。凹部1cは、電子の移動の上流側(左側)の面1dに比べて下流側(右側)の面1e傾斜がなだらかになるように凹部1cの開口から底部にわたって傾斜面が形成されている。【選択図】図4
請求項(抜粋):
磁性膜が細線状に形成され、複数本が並列されて配置されて、長手方向の一部に他の部分とは磁化方向の異なる磁区が形成される磁性細線と、 前記各磁性細線の長手方向の一方から他方に向かって電子を供給して前記磁区をシフト移動させる電極と、 前記各磁性細線のそれぞれ複数個所に設けられ、前記電子の移動により前記磁性細線中をシフト移動する前記磁区をトラップする凹部とを備え、 前記凹部は、前記磁性細線の上面に形成され、前記電子の移動の上流側に比べて下流側の傾斜がなだらかになるように当該凹部の開口から底部にわたって傾斜面を有することを特徴とする磁性細線装置。
IPC (3件):
G02F 1/09 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/84
FI (4件):
G02F1/09 503 ,  G02F1/09 505 ,  G11B5/65 ,  G11B5/84 Z
Fターム (21件):
2K102AA27 ,  2K102BA05 ,  2K102BB01 ,  2K102BB05 ,  2K102BC05 ,  2K102BC09 ,  2K102BD06 ,  2K102CA28 ,  2K102DA01 ,  2K102DA08 ,  2K102DB08 ,  2K102DC03 ,  2K102DC08 ,  2K102DD10 ,  2K102EA02 ,  2K102EB10 ,  2K102EB11 ,  2K102EB20 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D112GA00
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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