特許
J-GLOBAL ID：201603018323424850

磁気ディスク基板用研磨液組成物

発明者：
木村 陽介

木村 陽介 について

, 
内野 陽介

内野 陽介 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-102138
公開番号（公開出願番号）：特開2016-001513
出願日： 2015年05月19日
公開日（公表日）： 2016年01月07日
要約：
【課題】一態様において、粗研磨後の基板表面の長周期欠陥を低減できる磁気ディスク基板用研磨液組成物を提供する。【解決手段】一態様において、非球状シリカ粒子、窒素含有化合物、及び水を含み、該非球状シリカ粒子が2つ以上の粒子が凝集又は融着した形状であり、該窒素含有化合物が分子内にN原子を2又は3個有する有機アミン化合物である磁気ディスク基板用研磨液組成物に関する。該非球状シリカ粒子は、一又は複数の実施形態において、金平糖型のシリカ粒子A1、異形型のシリカ粒子A2、及び異形かつ金平糖型のシリカ粒子A3からなる群から選択される少なくとも1種類のシリカ粒子である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
非球状シリカ粒子、窒素含有化合物、及び水を含み、 前記非球状シリカ粒子が2つ以上の粒子が凝集又は融着した形状であり、 前記窒素含有化合物が分子内にN原子を2又は3個有する有機アミン化合物である、磁気ディスク基板用研磨液組成物。
IPC (4件)：
G11B 5/84 ,  C09K 3/14 ,  B24B 37/00 ,  B24B 37/24
FI (4件)：
G11B5/84 A ,  C09K3/14 550D ,  B24B37/00 H ,  B24B37/00 P
Fターム (25件)：
3C158AA07 ,  3C158AA09 ,  3C158CA01 ,  3C158CB01 ,  3C158CB03 ,  3C158CB10 ,  3C158DA02 ,  3C158DA17 ,  3C158EA01 ,  3C158EB01 ,  3C158EB11 ,  3C158EB19 ,  3C158ED10 ,  3C158ED15 ,  3C158ED21 ,  3C158ED23 ,  3C158ED26 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112GA08 ,  5D112GA09 ,  5D112GA12 ,  5D112GA14
引用特許：
審査官引用 (6件)
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