特許
J-GLOBAL ID：200903096083682631

磁気ディスク基板の製造方法

発明者：
末永 憲一

末永 憲一 について

, 
藤井 滋夫

藤井 滋夫 について


出願人/特許権者：
花王株式会社

花王株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-333399
公開番号（公開出願番号）：特開2008-142839
出願日： 2006年12月11日
公開日（公表日）： 2008年06月26日
要約：
【課題】研磨後の基板の微少うねりを低減し、かつ酸化アルミニウム粒子の基板への突き刺さりを低減し得る磁気ディスク基板の製造方法を提供する。【解決手段】酸化アルミニウム粒子と水とを含有する研磨液組成物と研磨パッドとを用いて被研磨基板を研磨する工程を含む磁気ディスク基板の製造方法であって、前記研磨液組成物は、前記酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径が0.1〜0.7μm、かつ前記酸化アルミニウム粒子中における粒子径1μm以上の粒子の含有量が0.2重量%以下であり、前記研磨パッドは、パッド表面の気孔部の平均気孔径が60μm以下、かつパッド表面積に占める気孔部の面積割合が60%以下であり、圧縮率が3〜20%である磁気ディスク基板の製造方法とする。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸化アルミニウム粒子と水とを含有する研磨液組成物と研磨パッドとを用いて被研磨基板を研磨する工程を含む磁気ディスク基板の製造方法であって、 前記研磨液組成物は、前記酸化アルミニウム粒子の二次粒子の体積中位粒子径が0.1〜0.7μm、かつ前記酸化アルミニウム粒子中における粒子径1μm以上の粒子の含有量が0.2重量%以下であり、 前記研磨パッドは、パッド表面の気孔部の平均気孔径が60μm以下、かつパッド表面積に占める気孔部の面積割合が60%以下であり、圧縮率が3〜20%である磁気ディスク基板の製造方法。
IPC (3件)：
B24B 1/00 ,  B24B 37/00 ,  G11B 5/84
FI (4件)：
B24B1/00 D ,  B24B37/00 H ,  B24B37/00 C ,  G11B5/84 A
Fターム (18件)：
3C049AA07 ,  3C049AA09 ,  3C049AC04 ,  3C049CA01 ,  3C049CB02 ,  3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AC04 ,  3C058CA01 ,  3C058CB02 ,  3C058DA02 ,  5D112AA02 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA06 ,  5D112BA09 ,  5D112GA09 ,  5D112GA14
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 研磨用発泡シート
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-373168   出願人：住友ベークライト株式会社
  • 基板の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-164322   出願人：花王株式会社
  • 基板の製造方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-164329   出願人：花王株式会社
審査官引用 (7件)
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