特許
J-GLOBAL ID：201603018364497480
誘導結合プラズマエッチングリアクタのためのガス分配シャワーヘッド
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
特許業務法人明成国際特許事務所
, 堀 研一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-513542
特許番号：特許第5891300号
出願日： 2012年05月16日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板支持体に支持された半導体基板にプラズマエッチングを施す誘導結合プラズマ処理装置のためのセラミックシャワーヘッドであって、
平坦な下面と、中央部分が厚く外側部分が薄い段付きの上面と、前記外側部分の環状領域に配置され前記上面および前記下面の間に伸びる複数の軸方向ガス孔と、前記下面の外周において前記外側部分に配置された真空シール面と、前記複数の軸方向ガス孔が配置された前記環状領域を規定する前記上面上の内側および外側真空シール面と、を有するセラミック材料の下側プレートと、
平坦な上面および下面と、外周から内向きに伸びる複数の半径方向ガス流路と、前記下面から前記複数の半径方向ガス流路まで伸びる複数の軸方向ガス流路と、を有するセラミック材料の環状の上側プレートと、
を備え、
前記環状の上側プレートは、前記下側プレートの前記中央部分を囲み、前記下側プレートの前記外側部分の前記上面を覆うように構成されており、前記上側プレートの前記複数の軸方向ガス流路が、前記下側プレートの前記複数の軸方向ガス孔と流体連通するように構成されている、セラミックシャワーヘッド。
IPC (2件)：
H01L 21/3065 ( 200 6.01)
, H05H 1/46 ( 200 6.01)
H01L 21/302 101 C
, H01L 21/302 101 L
, H05H 1/46 L
, H01L 21/302 101 G
