特許
J-GLOBAL ID:201603019620867962
保護膜形成フィルムおよび保護膜形成用シート
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 五十嵐 光永
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2016-113001
公開番号(公開出願番号):特開2016-174181
出願日: 2016年06月06日
公開日(公表日): 2016年09月29日
要約:
【課題】ワークを分割加工して加工物を得る際にワークに対して行われるエキスパンド工程において、保護膜形成フィルム1から形成された保護膜が適切に分割されうる保護膜形成フィルム1、及びこれを備えた保護膜形成用シート3Aを提供する。【解決手段】保護膜形成フィルム1から保護膜を形成する保護膜形成工程と、改質層が形成されたワークに対して力を付与して分割することにより分割物を得る分割工程と、を備え、前記分割物の一の面上に前記保護膜が積層されてなる加工物を得る加工物の製造方法に用いられる保護膜形成フィルム1であって、波長1064nmの光線透過率が30%以上であり、保護膜形成フィルム1から形成された保護膜は、測定温度0°Cで測定された破断応力(MPa)と、測定温度0°Cで測定された破断ひずみ(単位:%)との積が、1MPa・%以上250MPa・%以下である。【選択図】図3
請求項(抜粋):
ワークと、前記ワークの一の面に積層された保護膜形成フィルムと、前記保護膜形成フィルムの前記ワークに対向する側と反対側の面に積層されたダイシングシートとを備えた積層構造体の前記ワークに、前記ワークの内部に設定された焦点に集束されるように、前記ダイシングシート側から赤外域のレーザー光を照射して、前記ワーク内部に改質層を形成する第3改質層形成工程を備え、
前記保護膜形成フィルムから保護膜を形成する保護膜形成工程と、前記改質層が形成された前記ワークに対して力を付与して分割することにより分割物を得る分割工程と、をさらに備えて、前記分割物の一の面上に前記保護膜が積層されてなる加工物を得る加工物の製造方法に用いられる保護膜形成フィルムであって、
波長1064nmの光線透過率が30%以上であり、
前記保護膜形成フィルムから形成された保護膜は、測定温度0°Cで測定された破断応力(MPa)と、測定温度0°Cで測定された破断ひずみ(単位:%)との積が、1MPa・%以上250MPa・%以下であること
を特徴とする保護膜形成フィルム。
IPC (4件):
H01L 21/301
, B23K 26/53
, C09J 201/00
, H01L 23/00
FI (5件):
H01L21/78 M
, H01L21/78 B
, B23K26/53
, C09J201/00
, H01L23/00 C
Fターム (36件):
4E168AA00
, 4E168AE01
, 4E168CA13
, 4E168CB02
, 4E168DA02
, 4E168JA12
, 4E168JA17
, 4E168KA06
, 4J040DF021
, 4J040EC041
, 4J040EC061
, 4J040EC071
, 4J040EF281
, 4J040GA01
, 4J040HA026
, 4J040HA306
, 4J040HC01
, 4J040HC16
, 4J040HC23
, 4J040JB02
, 4J040NA20
, 5F063AA18
, 5F063AA31
, 5F063CB02
, 5F063CB07
, 5F063CB29
, 5F063CC33
, 5F063DD68
, 5F063DD96
, 5F063EE07
, 5F063EE22
, 5F063EE25
, 5F063EE29
, 5F063EE42
, 5F063EE43
, 5F063EE44
引用特許: