特許
J-GLOBAL ID：201603021160658205

積層基板の製造支援方法、積層基板の製造方法、故障原因特定方法、積層基板の製造支援プログラム及び積層基板

発明者：
廣瀬 文彦

廣瀬 文彦 について

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久保田 繁

久保田 繁 について

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坂本 仁志

坂本 仁志 について

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田中 正明

田中 正明 について


出願人/特許権者：
国立大学法人山形大学

国立大学法人山形大学 について

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株式会社半一

株式会社半一 について

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ペガサスソフトウェア株式会社

ペガサスソフトウェア株式会社 について


代理人 (1件)： 栗原 浩之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-040741
公開番号（公開出願番号）：特開2013-175690
特許番号：特許第5945886号
出願日： 2012年02月27日
公開日（公表日）： 2013年09月05日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板と、複数の材料からなる第1積層及び第2積層と、光を吸収する光吸収層とを備え、前記第1積層は前記基板の一方面に設けられ、前記第2積層は前記基板の他方面に設けられ、前記光吸収層は前記第2積層上に設けられた積層基板の製造支援方法であって、 前記第1積層及び前記第2積層に用いる材料、並びに前記材料について光の波長に依存する屈折率及び消衰係数を用いて、前記第1積層側から光が入射した際の前記第1積層及び前記第2積層の反射率及び透過率をマトリクス法により求め、 前記基板の膜厚から当該基板の内部透過率を計算し、 前記第1積層及び前記第2積層の反射率及び透過率並びに前記内部透過率から、前記第1積層側に入射した光が前記光吸収層に吸収される光吸収量を波長ごとに計算し、該光吸収量を積分して総光吸収量を求め、 前記総光吸収量が最大となる前記第1積層及び前記第2積層の材料及び膜厚を求める ことを特徴とする積層基板の製造支援方法。
IPC (1件)：
H01L 31/0392 ( 200 6.01)
FI (1件)：
H01L 31/04 284
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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