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J-GLOBAL ID：201702219567568556   整理番号：17A0955168

円筒空洞における共鳴場の高速回転と低速脈動によるマイクロ波プラズマの発生

Microwave plasma generation by the fast rotation and slow pulsation of resonant fields in a cylindrical cavity

著者 (6件)： HASEGAWA Yuichi (Chubu Univ., Aichi, JPN) ,  NAKAMURA Keiji (Chubu Univ., Aichi, JPN) ,  LUBOMIRSKY Dima (Applied Materials Inc., CA, USA) ,  PARK Soonam (Applied Materials Inc., CA, USA) ,  KOBAYASHI Satoru (Applied Materials Inc., CA, USA) ,  SUGAI Hideo (Nagoya Industrial Sci. Res. Inst., Nagoya, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 4  ページ： 046203.1-046203.7  発行年： 2017年04月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 可変周波数動作と精密な位相制御を可能にするディジタル制御の固体マイクロ波発生器がプラズマ発生に採用されている。本研究では,従来の導波管の代わりにマイクロ波アプリケータとして共鳴円筒形キャビティが使用された。プラズマの均一性を改善するために,TE111モードは,時間的位相差φを有する2つの空間的に直交する方向から,マイクロ波をキャビティに注入することによって攪拌される。理論解析と有限差分時間領域シミュレーションから,位相制御に係る以下の効果を導き出した。φ=+π/2の場合,キャビティ場の高速回転はω/2π(=2.4-2.5GHz)の回転周波数で起こった。ここで,ωはマイクロ波角周波数を表す。一方,φを低周波Ω/2π(=0.1-1000Hz)で時間的に線形変調すると,遅い脈動が起こり,キャビティー磁場は変調周波数で円運動と定在発振を交互に励起した。これらの効果は,0.1-20Torrのアルゴン中で50-800Wの総出力電力でマイクロ波放電において実験的に確認された。生成されたプラズマからの光放射の2次元画像は,速い回転と遅い脈動の両方が方位角プラズマの均一性を改善することを示している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *空洞 ,  *プラズマ ,  *共鳴 ,  制御 ,  位相制御 ,  *電磁波放射 ,  *TEモード ,  有限差分時間領域法
準シソーラス用語： マイクロ波プラズマ ,  マイクロ波発生 ,  可変周波数制御

分類 (2件)： 放電装置  (BJ03040P) ,  電子管,放電管  (NC02020D)

引用文献 (31件)：

• H. Sugai, H. Toyoda, K. Nakano, and N. Isomura, Plasma Sources Sci. Technol. 4, 366 (1995).
• H. Kokura, S. Yoneda, K. Nakamura, N. Mitsuhira, M. Nakamura, and H. Sugai, Jpn. J. Appl. Phys. 38, 5256 (1999).
• M. Kanoh, K. Aoki, T. Yamauchi, and Y. Kataoka, Jpn. J. Appl. Phys. 39, 5292 (2000).
• H. Sugai, I. Ghanashev, and M. Nagatsu, Plasma Sources Sci. Technol. 7, 192 (1998).
• K. Komachi and S. Kobayashi, J. Microwave Power Electromagn. Energy 24, 140 (1989).

タイトルに関連する用語 (6件)： 空洞 ,  共鳴 ,  高速回転 ,  低速 ,  脈動 ,  マイクロ波プラズマ