文献

J-GLOBAL ID：201702221978874461   整理番号：17A1138637

加湿アニール法を用いた非晶性高分子ブロックからなる両親媒性高分子によるナノ相分離構造薄膜の作製

著者 (5件)： 松永康平 (山形大 大学院) ,  松井淳 (山形大 理) ,  山本俊介 (東北大 多元物質科研) ,  三ツ石方也 (東北大 多元物質科研) ,  永野修作 (名大 VBL)
資料名： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
巻： 78th  ページ： ROMBUNNO.5p-C13-7  発行年： 2017年08月25日 
JST資料番号： Y0055B  ISSN： 2758-4704  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *両親媒性高分子 ,  *ブロック共重合体 ,  *ポリジアリルジメチルアンモニウムクロリド ,  *ポリエチレンオキシド ,  *高分子薄膜 ,  *焼なまし ,  *加湿 ,  層状組織 ,  *ミクロ相分離 ,  非晶質 ,  *ナノ相分離
準シソーラス用語： PDDA【化合物】 ,  PEG【重合体】 ,  アニーリング ,  層状構造

分類 (3件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  共重合  (CG04030D) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (8件)： 加湿 ,  アニール ,  非晶性 ,  高分子 ,  両親媒性高分子 ,  ナノ相分離 ,  薄膜 ,  作製