非接触三次元ナノ形状測定法の開発

遠藤勝義

文献

J-GLOBAL ID：201702224753611130 整理番号：17A0461601

非接触三次元ナノ形状測定法の開発

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著者 (1件)：
資料名：
巻： 55 号： 3 ページ： 38-45 発行年： 2017年03月20日
JST資料番号： S0624A ISSN： 0913-7289 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：解説発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

次世代放射光施設,X線自由電子レーザ,EUVL,天体望遠鏡などの分野では,多様の形状を持つ高精度な光学素子が必要となる。セグメント鏡は従来技術による加工が可能ではあるが,ナノ精度の形状測定法が確立されいない。本報告では,次世代超高精度ミラーやレンズの製作のために,超精密加工技術や超高精度計測技術について紹介した。特に,法線ベクトル追跡型の非接触三次元ナノ形状測定法を説明した。本測定法は,一般に用いられている光干渉法と異なり,基準面を必要としなかった。非接触三次元ナノ形状測定法の原理を述べ,ナノメーター精度の形状測定性能を示した。提案した三次元ナノ形状測定法は,原理的に測定形状に制限がなく,自由形状の光学素子を測定できる。

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長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器 , 光デバイス一般

引用文献 (16件)：

Y. Higashi, Y. Takaie, K. Endo, T. Kume, K. Enami, K. Yamauchi: Surface gradient integrated profiler for X-ray and EUV optics, SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS, 8 (2007) 177-180.
Y. Higashi, T. Ueno, K. Endo, J. Uchikoshi, T. Kume, K. Enami: High Precision profile measurement of a small radius lens by Surface Gradient Integrated Profiler SPIE Optics + Photonics 2008 Proceedings, No.7077-12, 2008, San Diego, CA, USA
Y. Higashi, T. Ueno, S. Tachibanada, J. Uchikoshi, T. Kume, K. Enami, K. Endo, SPIE symposium on ′′Advances in X-Ray/EUV Optics and Components IV′′, No. 7448-3, 2-6 ,2009, San Diego, CA, USA
T. Kitayama, D. Tonaru, H. Matsumura, J. Uchikoshi, Y. Higashi and K. Endo: Development of a High-Speed Nanoprofiler using Normal Vector Tracing, Key Engineering Materials, 516 (2012) 606-611
H. Matsumura, D. Tonaru, T. Kitayama, K. Usuki, T. Kojima, J. Uchikoshi, Y. Higashi and K. Endo: Effects of a laser beam profile to measure an aspheric mirror on a high-speed nanoprofiler using normal vector tracing method, Currnt Applied Physics, 12, (2012) S47-S51.

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