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J-GLOBAL ID：201202225935486989   整理番号：12A1219672

法線ベクトル追跡を用いた高速ナノプロファイラーの開発

Development of a High-Speed Nanoprofiler using Normal Vector Tracing

著者 (6件)： KITAYAMA Takao (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TONARU Daisuke (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  MATSUMURA Hiroki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  UCHIKOSHI Junichi (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  HIGASHI Yasuo (High Energy Accelerator Res. Organization, Ibaraki, JPN) ,  ENDO Katsuyoshi (Osaka Univ., Osaka, JPN)
資料名： Key Engineering Materials  (Key Engineering Materials)
巻： 516  ページ： 606-611  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0744C  ISSN： 1013-9826  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高速ナノプロファイラーを,法線ベクトル追跡により開発した。このプロファイラーは,レーザービームの直線性を使用し,5軸同時制御ステージの値を得ることにより,試験片表面の法線ベクトルを決定する。各法線ベクトルとその座標から,表面再構築アルゴリズムにより表面プロファイルを得る。プロファイラーの性能を調べるため,400nmの曲率半径の凹球面鏡を測定した。斜面測定の再現性は3μrad PVで,プロファイルの再現性は0.8nm PVであった。30nmのピークプロファイルを鏡の中央で測定し,この高さは約10nm以内でFizeau干渉計による測定と一致した。特に,結果は高空間周期数で良く一致した。著者らのプロファイラーとFizeau干渉計の違いは,QPD(四分円フォトダイオード)の変換率あるいは干渉計の光学機構などの系統誤差のためであると考えた。誤差と較正の更なる研究が,1nm精度での直接測定達成に必要である。

シソーラス用語： 法線 ,  ベクトル ,  レーザビーム ,  制御 ,  試験片 ,  半径 ,  再現性 ,  精度 ,  *凹面鏡 ,  干渉計 ,  フォトダイオード ,  誤差 ,  *追跡 ,  *形状測定 ,  形態 ,  球面鏡 ,  ナノ構造
準シソーラス用語： Fizeau干渉計 ,  曲率半径 ,  五軸制御 ,  表面形状

分類 (2件)： 長さ,面積,断面,体積,容積,角度の計測法・機器  (AD05020O) ,  レーザの応用  (BD04100V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 法線ベクトル ,  追跡 ,  プロファイラー ,  開発