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J-GLOBAL ID：201702236393606717   整理番号：17A0576948

ピンホール成膜による高分解能形状修正成膜法の開発

著者 (3件)： 西岡勇人 (東大 大学院工学系研究科) ,  本山央人 (東大 大学院工学系研究科) ,  三村秀和 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.P13  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： X線集光ミラーの加工には複雑な形状に対し0.1nmレベルの表面粗さと1nmレベルの形状精度が要求され,表面粗さを維持する高精度・高分解能な形状修正加工法が必要である。本研究はマグネトロンスパッタ法を用いた直径1mm以下のピンホールマスクによる差分成膜法で,現実的に加工可能な時間内に100μmレベルの高分解能の形状修正加工をすることを目標としている。本報では新たに設計し開発した成膜装置について報告する。(著者抄録)

シソーラス用語： *ピンホール ,  *薄膜成長 ,  高分解能 ,  形態 ,  *ナノ構造 ,  マグネトロンスパッタリング ,  形状精度 ,  表面粗さ ,  *反射鏡 ,  X線 ,  集光
準シソーラス用語： 形状修正

分類 (2件)： 薄膜一般  (BK14010X) ,  光デバイス一般  (BD06010L)

引用文献 (3件)：

• S. Handa, H. Mimura, H. Yumoto et al., Japanese Journal of Applied Physics. 48, 9, 0965071 - 0965074 (2009)
• R. Tiggelaar, J. Berenschot et al., Journal of Vacuum Science & Technology B. 25, 4, 1207 (2007)
• 長山光 et al, 精密工学会春季大会学術講演会論演論文集, Q37 (2016)

タイトルに関連する用語 (5件)： ピンホール ,  成膜 ,  高分解能 ,  形状修正 ,  開発