OSHIMA Takayoshi について
Saga Univ., Saga, JPN について
HASHIGUCHI Akihiro について
Saga Univ., Saga, JPN について
MORIBAYASHI Tomoya について
Saga Univ., Saga, JPN について
KOSHI Kimiyoshi について
Tamura Corp., Saitama, JPN について
KOSHI Kimiyoshi について
Novel Crystal Technol., Inc., Saitama, JPN について
SASAKI Kohei について
Tamura Corp., Saitama, JPN について
SASAKI Kohei について
Novel Crystal Technol., Inc., Saitama, JPN について
KURAMATA Akito について
Tamura Corp., Saitama, JPN について
KURAMATA Akito について
Novel Crystal Technol., Inc., Saitama, JPN について
UEDA Osamu について
Kanazawa Inst. of Technol., Tokyo, JPN について
OISHI Toshiyuki について
Saga Univ., Saga, JPN について
KASU Makoto について
Saga Univ., Saga, JPN について
Japanese Journal of Applied Physics について
格子欠陥 について
酸化ガリウム について
化合物半導体 について
Schottky障壁ダイオード について
電気的性質 について
接触 について
金電極 について
ウェットエッチング について
空孔欠陥 について
欠陥 について
漏れ電流 について
因子 について
高さ について
欠陥密度 について
Schottky接触 について
ボイド【結晶】 について
酸化物半導体 について
障壁高さ について
理想因子 について
ダイオード について
半導体-金属接触 について
半導体の格子欠陥 について
結晶欠陥 について
β-Ga2O3 について
作製 について
Schottky障壁ダイオード について
電気的性質 について