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J-GLOBAL ID：201702251250521169   整理番号：17A1299895

加湿アニール法を用いた両親媒性高分子の高配向ラメラ構造膜とその異方イオン伝導

著者 (7件)： 江端一輝 (山形大 大学院) ,  後藤崚介 (名大 院) ,  永野修作 (名大 VBL) ,  長尾祐樹 (北陸先端科学技術大学院大) ,  山本俊介 (東北大 多元物質科研) ,  三ツ石方也 (東北大 多元物質科研) ,  松井淳 (山形大 理)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 66  号： 2  ページ： ROMBUNNO.2B16  発行年： 2017年09月06日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 加湿 ,  焼なまし ,  *両親媒性高分子 ,  層状組織 ,  薄膜 ,  配向 ,  イオン伝導 ,  異方性 ,  プロトン伝導 ,  X線回折 ,  ブロック共重合体 ,  ミクロ相分離 ,  自己組織化
準シソーラス用語： アニール処理 ,  層状構造 ,  配向性 ,  ブロックコポリマ

分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

タイトルに関連する用語 (6件)： 加湿 ,  アニール ,  両親媒性高分子 ,  配向 ,  ラメラ構造 ,  イオン伝導