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J-GLOBAL ID：201702257048613349   整理番号：17A1224485

リソグラフィで転写した凹面レジストパターンを利用したマイクロレンズアレイの製作と評価

Fabrication of Micro-Lens Arrays Utilizing Lithographically Replicated Concave Resist Patterns and Evaluation of Lens Characteristics

著者 (3件)： 小林野歩 (東京電機大学) ,  笹木龍之介 (東京電機大学) ,  堀内敏行 (東京電機大学)
資料名： 精密工学会誌(Web)  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering (Web))
巻： 83  号： 8  ページ： 789-795(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： U0462A  ISSN： 1882-675X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本論文では,標記のマイクロレンズアレイの製作と評価を行った。投影露光リソグラフィを用い,焦点位置を垂直側壁が形成できる条件から意図的に大きくずらすことによって,マイクロ凸レンズアレイの型とする凹面パターンをレジスト表面に形成した。焦点位置,露光量,レチクル寸法を調整することで利用可能なレンズ形状が得られる条件と範囲を明らかにした。成形したマイクロレンズの特性を評価した。直径約3μmの光スポットアレイを得ることができ,焦点距離を測定した結果,22.5μmであった。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  転写 ,  *レジスト ,  パターン形成 ,  *マイクロレンズ ,  アレイ ,  露光 ,  凹面

著者キーワード (8件)： projection lithography ,  micro-lens array ,  plastic lens ,  concave resist pattern ,  projection lithography ,  micro-lens array ,  plastic lens ,  concave resist pattern

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光学器械要素とその材料  (QF05020K)

引用文献 (26件)：

• 1) A. Fernández, J. Medina, C. Benkel, M. Guttmann, B. Bilenberg, L. H. Thamdrup, T. Nielsen, C. M. S. Torres and N. Kehagias: Residual Rayer-free Reverse Nanoimprint Lithography on silicon and Metal-coated Substrates, Microelectronic Engineering, 141, (2015) 56.
• 2) A. Yokoo and H. Namatsu: Nanoelectrode lithography using a flat mold with a pattern defined by different conductivities, Microelectronic Engineering, 87, (2010) 931.
• 3) C. Steinberg, M. Papenheim, S. Wang and H. C. Scheer: Complex 3D structures via hybrid processing of SU-8, Microelectronic Engineering, 155, (2016) 14.
• 4) X. Fang, C. Lin, Y. Sun, H. Chin, H. Zan, H. Meng, S. Horng and L. A. Wang: A solvent-free lift-off method for realizing vertical organic transistors with low leakage current and high ON/OFF ratio, Organic Electronics, 31, (2016) 227.
• 5) T. S. Kulmala, E. Buitrago, M. Vockenhuber and Y. Ekinci: Pattern collapse mitigation in inorganic resists via a polymer freeze technique, Microelectronic Engineering, 155, (2016) 39.

タイトルに関連する用語 (7件)： リソグラフィ ,  転写 ,  凹面 ,  レジストパターン ,  マイクロレンズアレイ ,  製作 ,  評価