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J-GLOBAL ID：201702257049408122   整理番号：17A0330489

キシレンのRFプラズマのOESおよびGC/MS研究

OES and GC/MS Study of RF Plasma of Xylenes

著者 (2件)： LEE Szetsen (Chung Yuan Christian Univ., Taoyuan City, TWN) ,  LIU Shiao-Jun (Chung Yuan Christian Univ., Taoyuan City, TWN)
資料名： Plasma Chemistry and Plasma Processing  (Plasma Chemistry and Plasma Processing)
巻： 37  号： 1  ページ： 149-158  発行年： 2017年01月 
JST資料番号： H0836A  ISSN： 0272-4324  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： キシレン異性体の高周波放電を,発光分析(OES)によってモニターした。高周波プラズマにおけるキシレンの光化学的挙動を観察した。キシレンプラズマの反応生成物を,ガスクロマトグラフィー/質量分析(GC/MS)によって分析した。反応生成物の主要成分は,使用したキシレン異性体のタイプと関係無く,1,2-ジ-トリルエタン(DPTE)であった。o-およびm-キシリルラジカルは再配列を受け,p-キシリルラジカルに転化した。ベンゼンおよびトルエンプラズマのケースと同様に,二つのp-キシリルラジカル間の再結合が,DPTE生成の原因であると信じられた。密度汎関数法から,キシレンエキシマのDPTEへの転化は有りそうも無いことが示唆された。

シソーラス用語： 発光分析 ,  *高周波放電 ,  *プラズマ ,  密度汎関数法 ,  アルキルベンゼン ,  異性体 ,  GC-MS分析 ,  *反応機構
準シソーラス用語： *高周波プラズマ ,  *キシレン

分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  無触媒気相反応  (CB06050Y)

物質索引 (4件)： 1,2-ジ-p-トリルエタン ,  o-キシレン ,  m-キシレン ,  p-キシレン

タイトルに関連する用語 (4件)： キシレン ,  RFプラズマ ,  GC ,  研究