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J-GLOBAL ID：201702261928115019   整理番号：17A1815024

TiO₂/ポリジメチルシロキサンコンポジット材料の陽子線による改質

Evaluation of the Induced Modification of a TiO₂/Polydimethylsiloxane Composite by Proton Beam

著者 (3件)： 金子優斗 (芝浦工業大学大学院理工学研究科) ,  林秀臣 (芝浦工業大学大学院理工学研究科) ,  西川宏之 (芝浦工業大学大学院理工学研究科)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 137  号： 11  ページ： 652-653(J-STAGE)  発行年： 2017年 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,TiO₂/ポリジメチルシロキサン(PDMS)を直接添加法にて作製し,TiO₂添加により生じる光損失,および陽子線照射による誘起屈折率変化を調べた。TiO₂/PDMSの屈折率はTiO₂を1.0wt%添加することにより最大0.0080±0.0004上昇した。また同試料への陽子線照射で屈折率が単調増加し,最大で0.012上昇することを確認した。以上の結果を踏まえると,陽子線照射による光導波路の形成は可能である。

シソーラス用語： *酸化チタン ,  *ポリジメチルシロキサン ,  *ナノ複合材料 ,  *光学素子 ,  *リソグラフィー ,  *陽子ビーム ,  *表面改質 ,  ドーピング ,  *陽子照射 ,  屈折率 ,  損失 ,  伝送損失 ,  *光導波路 ,  ナノ粒子
準シソーラス用語： 有機無機複合材料 ,  陽子線描画 ,  光損失

著者キーワード (6件)： 陽子線 ,  ナノ粒子 ,  光学素子 ,  proton beam writing ,  nano particle ,  optical device

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H)

引用文献 (5件)：

• (1) 「平成26年度版情報通信白書」第1部, 第4章, 第1節, http://www.soumu.go.jp/johotsusintokei/whitepaper/ja/h26/pdf/index.html
• (2) 大林達彦:「熱可塑性ナノコンポジット光学材料の開発」, 富士フイルム研究報告, No. 58, pp. 48-51 (2013)
• (3) F. Watt, M. B. H. Breese, A. A. Bettiol, and J. A. Van Kan : “Proton beam writing”, Mater Today, Vol. 10, No. 6, pp. 20-28 (2007)
• (4) 三浦健太:「プロトンビーム描画による光導波路デバイス形成の基礎検討」, 電子情報通信学会技術報告, Vol. 110, No. 352, pp. 27-30 (2010)
• (5) R. K. Parajuli, et al.: “Fabrication and evaluation of flexible Mach-Zehnder waveguide structure embedded in a poly(dimethylsiloxane) thin film using a proton microbeam”, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 55, 06GDF01 (2016)

タイトルに関連する用語 (5件)： TiO2 ,  ポリジメチルシロキサン ,  コンポジット材料 ,  陽子線 ,  改質