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J-GLOBAL ID：201702267119250112   整理番号：17A1220551

(001),(011),(111)配向MgO基板上のCr(N,O)薄膜の硬度

Hardness of Cr(N,O) thin films on (001)-, (011)-, and (111)-oriented MgO substrates

著者 (6件)： IKEYAMA Suguru (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  SUZUKI Kazuma (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  SUZUKI Tsuneo (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  NAKAYAMA Tadachika (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  SUEMATSU Hisayuki (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  NIIHARA Koichi (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 55  号： 2S  ページ： 02BC02.1-02BC02.4  発行年： 2016年02月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： パルスレーザ蒸着を用いて,(001)及び(011)配向MgO基板上にCr(N,O)薄膜を,またMgO(111)基板上に(200)配向多結晶Cr(N,O)薄膜をエピタキシャル成長させた。Rutherford散乱分光法と電子エネルギー損失分光法から求めたデータは,(001),(011),(111)配向MgO基板上のCr(N,O)がCr,NおよびOを含むことを示した。ナノインデンテーションでは,(001)面,(011)面,(111)面MgO基板上のCr(N,O)膜の硬度値には無視できる程度の差があり,前者の二種類の膜の硬度は約36GPaであった。これらの結果は,Cr(N,O)の硬度が基板の配向効果及び粒界効果に起因する成長形態とは無関係であることを示した。最後に,全ての基板上のCr(N,O)膜はMgO(001)上のエピタキシャルCrNからなる比較試料よりも高い硬度を示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 酸化マグネシウム ,  *エピタクシー ,  *パルスレーザ蒸着 ,  Rutherford散乱分光法 ,  電子エネルギー損失分光法 ,  ナノインデンテーション ,  *硬度 ,  クロム化合物 ,  窒化物 ,  窒素 ,  クロム ,  酸素 ,  薄膜 ,  X線回折
準シソーラス用語： エピタキシャル成長 ,  窒化クロム

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (40件)：

• H. A. Jehn, Surf. Coatings Technol. 125, 212 (2000).
• I. Milo?ev, H.-H. Strehblow, and B. Navin?ek, Thin Solid Films 303, 246 (1997).
• J. C. Caicedo, C. Amaya, L. Yate, O. Nos, M. E. Gomez, and P. Prieto, Mater. Sci. Eng. B 171, 56 (2010).
• B. Navin?ek, P. Panjan, and A. Cvelbar, Surf. Coatings Technol. 74-75, 155 (1995).
• P. C. Jindal, A. T. Santhanam, U. Schleinkofer, and A. F. Shuster, Int. J. Refract. Met. Hard Mater. 17, 163 (1999).

タイトルに関連する用語 (5件)： 配向 ,  MgO ,  Cr ,  薄膜 ,  硬度