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J-GLOBAL ID：201702268876460668   整理番号：17A0576881

ナノインプリント技術開発動向

著者 (1件)： 横尾篤 (NTT 物性科学基礎研)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2017  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.N13(N13.N14)  発行年： 2017年03月01日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 1995年にプリンストン大のChou教授によって提案されて以来,ナノインプリントリソグラフィはハードディスクやLSI,フォトニックデバイスなどへの応用を見据えて,高い関心を集めてきた。量産装置開発の進展に伴い,次世代の産業への貢献に対する期待が高まっている。本講演では,ナノインプリント技術の研究課題と現状について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  技術開発 ,  技術予測 ,  技術進歩 ,  ナノメータ加工

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (6件)：

• Chou, S. Y.; Krauss, P. R.; Renstrom, P. J. Appl. Phys. Lett. 1995, 67, (21), 3114-3116.
• Chou, S. Y.; Krauss, P. R.; Renstrom, P. J. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 1996, 14, (6), 4129-4133.
• Bailey, T.; Choi, B. J.; Colburn, M.; Meissl, M.; Shaya, S.; Ekerdt, J. G.; Sreenivasan, S. V.; Willson, C. G. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 2000, 18, (6), 3572-3577.
• Hiroshima, H.; Komuro, M. Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 2007, 25, (6), 2333-2336.
• Hiroshima, H. Japanese Journal of Applied Physics 2008, 47, (10R), 8098.

タイトルに関連する用語 (2件)： ナノインプリント ,  技術開発動向