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J-GLOBAL ID：200902299307963202   整理番号：08A1104132

インプリントリソグラフィーにおける残留層厚均一化のための容量均一化型の作製

Fabrication of Capacity-Equalized Mold for Homogenizing Residual Layer Thickness in Imprint Lithography

著者 (2件)： HIROSHIMA Hiroshi (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  HIROSHIMA Hiroshi (JST-CREST, Saitama, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 47  号： 10 Issue 1  ページ： 8098-8100  発行年： 2008年10月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 残留層制御は,インプリントリソグラフィーにおける中心問題である。薄く一様な残留層は,一様パターン密度の場合には容易に実現できるが,成形材料がスピンコーティングにより供給される非一様パターン密度の場合にはほとんど実現できない。各種パターン密度の残留層を均一化し,スピンコート膜にも適した,容量均一化型と呼ぶ新しい種類の型を提案した。型における空洞深さを調整するのに補助的なマスクを使用して,従来の型作製プロセスに付加的なリソグラフィーステップを導入することにより,容量均一化型を作製した。各種パターン密度の一様残留層を,容量均一化型を用いたUVナノインプリントにより確認した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： リソグラフィー ,  *層厚 ,  層 ,  *型 ,  容量 ,  密度 ,  スピンコーティング
準シソーラス用語： *インプリントリソグラフィー ,  *残留層 ,  *均一化 ,  パターン密度

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  薄膜一般  (BK14010X)

引用文献 (8件)：

• S. Chou, P. Krauss, and P. Renstrom: J. Vac. Sci. Technol. B 14(1996)4129.
• M. Colburn, A. Grot, B. Choi, M. Amistoso, T. Bailey, S. V. Sreenivasan, J. Ekerdt, and C. Willson: J. Vac. Sci. Technol. B 19(2001)2162.
• H. Schulz, M. Wissen, and H.-C. Scheer: Microelectron. Eng.67-68(2003)657.
• M. Smith: Proc. SPIE 6520(2007)652001.
• F. Lazzarino, C. Gourgon, P. Schiavone, and C. Perret: J. Vac. Sci. Technol. B 22(2004)3318.

タイトルに関連する用語 (5件)： インプリントリソグラフィー ,  残留 ,  層厚 ,  均一化 ,  作製