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J-GLOBAL ID：201702270624547234   整理番号：17A1734161

半屈曲性高分子の粘弾性と応力光学則

著者 (9件)： 岡田祐樹 (大阪大 大学院) ,  田仲玲奈 (大阪大 大学院) ,  井上正志 (大阪大 大学院) ,  JIANG X. (大阪大 大学院) ,  寺尾憲 (大阪大 大学院) ,  佐藤尚弘 (大阪大 大学院) ,  松本篤 (OIST) ,  後藤由香 (大阪大 理) ,  深澤愛 (大阪大 理)
資料名： レオロジー討論会講演要旨集  (レオロジー討論会講演要旨)
巻： 65th  ページ： 250-251  発行年： 2017年10月17日 
JST資料番号： L0844A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *半屈曲性高分子 ,  *粘弾性 ,  応力 ,  高分子鎖 ,  弾性係数 ,  周波数依存性 ,  *複素弾性率 ,  レオロジー ,  緩和弾性率 ,  *機械的性質
準シソーラス用語： 緩和弾性係数 ,  光学係数

分類 (1件)： 高分子溶液・融液のレオロジー  (BL01013Z)

タイトルに関連する用語 (3件)： 半屈曲性高分子 ,  粘弾性 ,  応力