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J-GLOBAL ID：201702280653308463   整理番号：17A1810925

液体窒素温度での酸化ニッケル薄膜の反応性スパッタ蒸着

Reactive sputter deposition of nickel oxide thin films at liquid nitrogen temperature

著者 (6件)： ABE Yoshio (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  YAMAUCHI Shun (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  KAWAMURA Midori (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  KIM Kyung Ho (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  KIBA Takayuki (Kitami Inst. of Technol., Hokkaido, JPN) ,  NARAI Akira (Kobe Steel Ltd., Kobe, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 56  号： 8  ページ： 088004.1-088004.3  発行年： 2017年08月 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 液体窒素で冷却した基板上にAr+H₂O雰囲気中で酸化ニッケル薄膜を反応性スパッタ蒸着した。基板表面に向けてH₂Oガスを0から1.5cm³/minのいろいろな流量で放出した。過剰なH₂O分子は液体窒素タンク上で凝結しているので,ニッケル金属ターゲットは金属状態を維持していると考えられる。液体窒素温度で蒸着した膜はニッケル金属と酸化ニッケルの混合体であることが分かった。14と26%の間のエレクトロクロミック透過率変化をKOH水性電解質中の膜で観測した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *反応性スパッタリング ,  *酸化ニッケル ,  *薄膜 ,  *低温 ,  アルゴン ,  *水蒸気 ,  依存性 ,  ターゲット ,  ニッケル ,  エレクトロクロミズム ,  透過率 ,  水酸化カリウム ,  結晶構造 ,  マグネトロンスパッタリング ,  ウエハ【IC】 ,  基板 ,  *酸化物
準シソーラス用語： RFマグネトロンスパッタリング ,  *液体窒素温度 ,  分光透過率 ,  流量依存性 ,  *酸化物薄膜

分類 (3件)： 薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  電気光学効果,磁気光学効果  (BM08020L)

引用文献 (21件)：

• C. G. Granqvist, Handbook of Inorganic Electrochromic Materials (Elsevier, Amsterdam, 1995) pp. 1 and 339.
• B. P. Jelle, in Electrochromic Materials and Devices, ed. R. J. Mortimer, D. R. Rosseinsky, and P. M. S. Monk (Wiley-VCH, Weinheim, 2015) p. 419.
• G. A. Niklasson and C. G. Granqvist, J. Mater. Chem. 17, 127 (2007).
• H. Ueta, Y. Abe, K. Kato, M. Kawamura, K. Sasaki, and H. Itoh, Jpn. J. Appl. Phys. 48, 015501 (2009).
• Y. Abe, J. Vac. Soc. Jpn. 53, 515 (2010) [in Japanese].

タイトルに関連する用語 (5件)： 液体窒素温度 ,  酸化ニッケル ,  薄膜 ,  反応性 ,  スパッタ蒸着