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J-GLOBAL ID：201702283640382636   整理番号：17A0462187

3極高電力パルスマグネトロンスパッタ法を用いた,火山構造2重ゲートSpindt型エミッタ陰極のための,Mo微小コーンの作製

Fabrication of Mo microcones for volcano-structured double-gate Spindt-type emitter cathodes using triode high power pulsed magnetron sputtering

著者 (5件)： Nakano Takeo (Department of Materials and Life Science, Seikei University, 3-3-1 Kichijoji-Kita, Musashino, Tokyo 180-8633, Japan) ,  Narita Tomoki (Department of Materials and Life Science, Seikei University, 3-3-1 Kichijoji-Kita, Musashino, Tokyo 180-8633, Japan) ,  Oya Kei (Department of Materials and Life Science, Seikei University, 3-3-1 Kichijoji-Kita, Musashino, Tokyo 180-8633, Japan) ,  Nagao Masayoshi (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan) ,  Ohsaki Hisashi (National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, Japan)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena  (Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 35  号： 2  ページ： 022204-022204-6  発行年： 2017年03月 
JST資料番号： E0974A  ISSN： 2166-2746  CODEN： JVTBD9  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,火山構造Spindt型微小電子エミッタのためのMoコーンのアレイを作製した。正のプラズマ電圧を制御し,イオン種を効果的に加速するため,最近開発された3極高電力パルスマグネトロン装置を用いた。適切な正電圧を付加電極に印加することで,2重のレジスト層からなる水冷微小空洞構造において,高アスペクト比を有する良好なコーン形状を得た。これは,従来の真空蒸着法では得られなかった。垂直方向へのイオンの整列および堆積膜の応力へのイオン加速の影響を論じた。前者は鋭いコーンを形成する上で重要であり,一方,後者は安定な製作を実現するために必須である。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： マグネトロンスパッタリング ,  *スパッタ蒸着 ,  *エミッタ【半導体】 ,  *モリブデン ,  *微細構造 ,  *円筒 ,  配列 ,  パルス法 ,  *アスペクト比 ,  加速
準シソーラス用語： *高アスペクト比 ,  イオン加速

分類 (1件)： 熱電子放出,電界放出  (BM09020S)

タイトルに関連する用語 (12件)： 極 ,  高電力 ,  パルス ,  マグネトロンスパッタ法 ,  火山 ,  2重ゲート ,  エミッタ ,  陰極 ,  Mo ,  微小 ,  コーン ,  作製