特許
J-GLOBAL ID：201703000023175922

成膜マスクの製造方法及び成膜マスク

発明者：
水村 通伸

水村 通伸 について

, 
小川 吉司

小川 吉司 について

, 
梶山 康一

梶山 康一 について


出願人/特許権者：
株式会社ブイ・テクノロジー

株式会社ブイ・テクノロジー について


代理人 (3件)： 小川 護晃 ,  西山 春之 ,  奥山 尚一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-157667
公開番号（公開出願番号）：特開2015-028194
特許番号：特許第6163376号
出願日： 2013年07月30日
公開日（公表日）： 2015年02月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に成膜される複数の薄膜パターンに対応して複数の開口パターンを設けた成膜マスクの製造方法であって、 樹脂製のフィルムの一面にて、該フィルムの周縁部に沿って複数の孤立パターンから成る金属薄膜を形成する第1段階と、 前記複数の開口パターンを内包する大きさの開口部を有する枠状の金属フレームの一端面に前記金属薄膜を対面させた状態で、前記金属フレームに前記フィルムを架張し、前記金属薄膜と前記金属フレームとをスポット溶接する第2段階と、 前記フィルムにレーザ光を照射して前記複数の開口パターンを形成する第3段階と、 を実行することを特徴とする成膜マスクの製造方法。
IPC (4件)：
C23C 14/04 ( 200 6.01) ,  H01B 5/14 ( 200 6.01) ,  H01B 13/00 ( 200 6.01) ,  G06F 3/041 ( 200 6.01)
FI (6件)：
C23C 14/04 A ,  H01B 5/14 A ,  H01B 5/14 B ,  H01B 13/00 503 B ,  H01B 13/00 503 D ,  G06F 3/041 400
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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