特許
J-GLOBAL ID：200903057611522638

蒸着マスクおよびその製造方法並びに有機電界発光装置の製造方法

発明者：
藤森 茂雄

藤森 茂雄 について

, 
新井 猛

新井 猛 について

, 
池田 武史

池田 武史 について


出願人/特許権者：
東レ株式会社

東レ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-115159
公開番号（公開出願番号）：特開2005-302457
出願日： 2004年04月09日
公開日（公表日）： 2005年10月27日
要約：
【課題】高精度のパターニングが可能な、薄い精密パターンマスクを有する蒸着マスクとその製造方法を提供すること、その蒸着マスクを使用することで開口率の高い有機電界発光装置を提供すること。 【解決手段】 蒸着パターンに対応した蒸着開口部配列をもつ厚さ20μm以下の精密パターンマスクが、厚さ1mm以上のフレームに固定されていることを特徴とする蒸着マスク。 【選択図】図1
請求項（抜粋）：
蒸着パターンに対応した蒸着開口部配列をもつ厚さ20μm以下の精密パターンマスクが、厚さ1mm以上のフレームに固定されていることを特徴とする蒸着マスク。
IPC (4件)：
H05B33/10 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H05B33/14
FI (4件)：
H05B33/10 ,  C23C14/04 A ,  C23C14/24 G ,  H05B33/14 A
Fターム (12件)：
3K007AB03 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA00 ,  3K007FA01 ,  4K029AA09 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029HA03
引用特許：
出願人引用 (10件)
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