特許

J-GLOBAL ID：201703000452667680

計測装置

発明者： 岡本 純一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (3件)： 渡辺 和昭 ,  西田 圭介 ,  仲井 智至
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-023387
公開番号（公開出願番号）：特開2017-142152
出願日： 2016年02月10日
公開日（公表日）： 2017年08月17日
要約：

【課題】測定時間を短縮することができる計測装置を提供する。【解決手段】本発明の計測装置100は、光パルスを生成可能な光パルス生成部10と、光パルス生成部10にて生成された光パルスを第1の光パルスとしてのポンプ光L1と第2の光パルスとしてのプローブ光L2に分岐する光パルス分岐部20と、ポンプ光L1が照射されてテラヘルツ波を生成するテラヘルツ波発生部30と、測定対象の試料Sに照射されて透過又は反射したテラヘルツ波とプローブ光L2が照射されるテラヘルツ波検出部50と、光パルス分岐部20からテラヘルツ波検出部50までのプローブ光L2の光路長が変化するように構成される遅延光学系40と、を備え、遅延光学系40は、プローブ光L2と交差する方向を回転軸とする回転ミラー44と、回転ミラー44で反射したプローブ光L2の光路長を異ならせる複数の厚みを有する遅延部48と、を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光パルスを生成可能な光パルス生成部と、 前記光パルス生成部にて生成された光パルスを第1の光パルスと第2の光パルスに分岐する光パルス分岐部と、 前記第1の光パルスが照射されてテラヘルツ波を生成するテラヘルツ波発生部と、 測定対象の試料に照射されて透過又は反射した前記テラヘルツ波と前記第2の光パルスが照射されるテラヘルツ波検出部と、 前記光パルス分岐部から前記テラヘルツ波検出部までの前記第2の光パルスの光路長が変化するように構成される遅延光学系と、 を備え、 前記遅延光学系は、前記第2の光パルスと交差する方向を回転軸とする回転ミラーと、前記回転ミラーで反射した前記第2の光パルスの光路長を異ならせる複数の厚みを有する遅延部と、を含む、ことを特徴とする計測装置。

IPC (1件)：

G01N 21/358

FI (1件)：

G01N21/3586

Fターム (14件)：

2G059AA01 ,  2G059EE01 ,  2G059EE12 ,  2G059FF04 ,  2G059GG01 ,  2G059GG08 ,  2G059HH01 ,  2G059JJ11 ,  2G059JJ13 ,  2G059JJ14 ,  2G059JJ19 ,  2G059JJ20 ,  2G059KK01 ,  2G059LL01

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 光学遅延装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-200080   出願人：ソニー株式会社
• 表面形状測定装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-093669   出願人：国立大学法人宇都宮大学
• 電磁波イメージング装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-185155   出願人：富士通株式会社