特許
J-GLOBAL ID：201703000506824808

反応現像画像形成法

発明者：
大山 俊幸

大山 俊幸 について

, 
安田 めぐみ

安田 めぐみ について


出願人/特許権者：
国立大学法人横浜国立大学

国立大学法人横浜国立大学 について


代理人 (3件)： 下田 昭 ,  赤尾 謙一郎 ,  栗原 和彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-193009
公開番号（公開出願番号）：特開2014-048562
特許番号：特許第6054104号
出願日： 2012年09月03日
公開日（公表日）： 2014年03月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】ポリイミド樹脂及び光酸発生剤を含有するポジ型フォトレジスト構造物を形成させるための感光性樹脂組成物であって、該ポリイミド樹脂が酸二無水物と下式 (式中、R1は、炭素数が6以下の炭化水素基を表し、R2は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、アルキル基、アルコキシ基又はフルオロアルキル基を表し、nは0〜4を表す。但し、nはR1の炭素数以下である。)で表されるジアミン化合物とを反応させてなる、該酸二無水物が脂環式酸二無水物を含有する感光性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/023 ( 200 6.01) ,  G03F 7/004 ( 200 6.01) ,  C08G 73/10 ( 200 6.01) ,  H05K 3/28 ( 200 6.01)
FI (4件)：
G03F 7/023 ,  G03F 7/004 501 ,  C08G 73/10 ,  H05K 3/28 D
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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