特許
J-GLOBAL ID：201703001826077055
有機EL素子の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
中山 亨
, 坂元 徹
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-540051
特許番号：特許第6079937号
出願日： 2016年06月09日
要約：
【要約】 陽極と、陰極と、陽極と陰極の間に設けられた少なくとも1層の有機機能層と、封止層とを有する有機EL素子の製造方法であって、
陽極を形成する工程と、陰極を形成する工程と、少なくとも1層の有機機能層を形成する工程と、封止層を形成する工程とを含み、
少なくとも1層の有機機能層を形成する工程の開始時から封止層を形成する工程の終了時までに製造中の有機EL素子が曝露されるアンモニアの平均濃度:A(ppm)と、曝露時間:B(秒)とが、式(1-1)を満たす、有機EL素子の製造方法。
0≦A×B≦105 (1-1)
請求項（抜粋）：
【請求項1】 陽極と、陰極と、陽極と陰極の間に設けられた少なくとも1層の有機機能層と、封止層とを有する有機EL素子の製造方法であって、
陽極を形成する工程と、陰極を形成する工程と、少なくとも1層の有機機能層を形成する工程と、封止層を形成する工程とを含み、
少なくとも1層の有機機能層を形成する工程の開始時から封止層を形成する工程の終了時までに製造中の有機EL素子が曝露されるアンモニアの平均濃度:A(ppm)と、曝露時間:B(秒)とが、式(1-1)を満たす、赤色有機EL素子の製造方法。
0≦A×B≦105 (1-1)
IPC (3件)：
H05B 33/10 ( 200 6.01)
, H01L 51/50 ( 200 6.01)
, H05B 33/04 ( 200 6.01)
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, H05B 33/04
