特許
J-GLOBAL ID：201703003310222710
ガス流の制御
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
西島 孝喜
, 弟子丸 健
, 田中 伸一郎
, 井野 砂里
, 松下 満
, 倉澤 伊知郎
, 山本 泰史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-138166
公開番号（公開出願番号）：特開2017-021031
出願日： 2016年07月13日
公開日（公表日）： 2017年01月26日
要約：
【課題】ICP-CCT機器内の複数の種類の衝突ガスの流れを制御するための、単一の流れ制御器のみを必要とするガス制御システムを提供することが望ましい。【解決手段】本発明は、ガス入口ライン上に配置される少なくとも第1の流れ制限部及び第2の流れ制限部と、ガス入口ラインに接続されるガス流制御ラインと、ガス制御ライン上のガス流制御器と、ガス入口ライン及びガス制御ライン内のガス流を制御するための弁とを備える、分析装置内にガスを提供するためのガス入口システムに関する。分析装置内へのガス流を制御する方法も提供される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
分析装置内にガスを提供するためのガス入口システムであって、
(a)前記装置内にガスを導入するための、前記装置に流体接続される少なくとも1つのガス入口ラインと、
(b)前記少なくとも1つのガス入口ライン内のガスの流れを制御するための、前記少なくとも1つのガス入口ライン上に配置される少なくとも1つの弁と、
(c)少なくとも1つのガス入口接合部を通じて前記少なくとも1つのガス入口ラインに流体接続される少なくとも1つのガス流制御ラインと、
(d)それぞれ、前記少なくとも1つのガス入口接合部の上流及び下流にある、前記少なくとも1つのガス入口ライン上に配置される少なくとも1つの第1の流れ制限部及び少なくとも1つの第2の流れ制限部と、
(e)前記少なくとも1つのガス入口接合部の圧力を制御するように前記少なくとも1つのガス流制御ライン上に配置される少なくとも1つの背圧調節器と、
(f)前記少なくとも1つのガス流制御ライン内のガスの流れを制御するための少なくとも1つの弁と、
(g)前記背圧調節器の下流にある、前記少なくとも1つのガス制御ラインに流体接続される少なくとも1つの真空ポンプまたは排気管と、を備える、ガス入口システム。
IPC (3件)：
G01N 27/62
, H01J 49/10
, G01N 1/00
G01N27/62 B
, G01N27/62 G
, H01J49/10
, G01N1/00 101R
2G041CA01
, 2G041DA14
, 2G041EA05
, 2G041FA17
, 2G041GA24
, 2G041KA03
, 2G052AB01
, 2G052CA04
, 2G052CA14
, 2G052CA38
, 2G052GA24
, 2G052HC25
, 2G052HC28
, 5C038GG09
, 5C038GG13
