リアクタのためのサセプタ配置、及びリアクタのためのプロセスガスを加熱する方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：村山靖彦 , 実広信哉 , 阿部達彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-118719
公開番号（公開出願番号）：特開2017-011267
出願日： 2016年06月15日
公開日（公表日）： 2017年01月12日
要約：

【課題】熱伝達効率のよいリアクタのためのサセプタ配置を提供する。【解決手段】リアクタのためのサセプタ配置は、リアクタ中で使用されるプロセスガスを加熱するように構成されたヒータエレメントを含む。また、ヒータエレメントの径方向内向きに配置され、径方向内側プロセスガス経路に沿ってその中にプロセスガスをルーティングするように構成された内側サセプタ部分が含まれる。更に、ヒータエレメントの径方向外向きに配置され、径方向外側プロセスガス経路に沿ってその中にプロセスガスをルーティングするように構成された外側サセプタ部分が含まれ、径方向内側プロセスガス経路と径方向外側プロセスガス経路とは、流体結合され、ヒータエレメントから実質的に流体分離される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

リアクタのためのサセプタ配置であって、前記リアクタ中で使用されるプロセスガスを加熱するように構成されたヒータエレメントと、前記ヒータエレメントの径方向内向きに配置され、径方向内側プロセスガス経路に沿ってその中に前記プロセスガスをルーティングするように構成された内側サセプタ部分と、前記ヒータエレメントの径方向外向きに配置され、径方向外側プロセスガス経路に沿ってその中に前記プロセスガスをルーティングするように構成された外側サセプタ部分と、を備え、前記径方向内側プロセスガス経路と前記径方向外側プロセスガス経路とが、流体結合され、前記ヒータエレメントから実質的に流体分離される、リアクタのためのサセプタ配置。

IPC (1件)：

H01L 21/205

FI (1件)：

H01L21/205

Fターム (10件)：

5F045AB03 , 5F045AC03 , 5F045AC05 , 5F045AC15 , 5F045AC16 , 5F045EE02 , 5F045EE20 , 5F045EF15 , 5F045EK07 , 5F045EK08

引用特許：

審査官引用 (6件)

高温のガスと接触するための装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-059641 出願人：ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション
四塩化ケイ素をトリクロロシランに転化するための方法および装置
公報種別：公表公報出願番号：特願2013-548856 出願人：ワッカーケミーアクチエンゲゼルシャフト
特開昭61-118135

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