特許
J-GLOBAL ID：201703006684353639

低い酢酸ブチル含量を有する酢酸生成物の製造方法

発明者：
ヨウ-ファ・リュウ

ヨウ-ファ・リュウ について

, 
マーク・オー・スケーツ

マーク・オー・スケーツ について


出願人/特許権者：
セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション

セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション について


代理人 (5件)： 小野 新次郎 ,  小林 泰 ,  竹内 茂雄 ,  山本 修 ,  中田 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-221852
公開番号（公開出願番号）：特開2017-061520
出願日： 2016年11月14日
公開日（公表日）： 2017年03月30日
要約：
【課題】カルボニル化反応によって低い酢酸ブチル含量を有する酢酸生成物を製造する方法。【解決手段】カルボニル化反応は、100〜300°Cの温度、0.3〜2気圧の水素分圧、及び反応媒体の重量を基準として100〜3000wppmのロジウム触媒濃度において行う。酢酸生成物中の酢酸ブチル濃度は、反応媒体から誘導される流れからアセトアルデヒドを除去し、及び/又は反応温度、水素分圧、及び金属触媒濃度の少なくとも1つを調節することによって制御する方法。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
酢酸生成物の製造方法であって、反応器内において、メタノール、ジメチルエーテル、及び酢酸メチルからなる群から選択される少なくとも1種類のメンバーを、水、ロジウム触媒、ヨウ化メチル、及びヨウ化リチウムの存在下で一酸化炭素を用いて連続的にカルボニル化して反応媒体を形成する工程、ここで、該カルボニル化は150〜250°Cの温度及び0.3〜2気圧の水素分圧で行われる;該反応媒体から誘導される流れからアセトアルデヒドを除去して粗酢酸生成物を形成する工程;該粗酢酸生成物を金属交換されたイオン交換樹脂と接触させて酢酸生成物を製造する工程;および該酢酸生成物中の酢酸ブチル濃度を10wppm以下に維持し、該酢酸生成物中のヨウ化物濃度を100wppb以下に維持する工程を含む方法。
IPC (4件)：
C07C 51/12 ,  C07C 53/08 ,  C07C 51/44 ,  C07C 51/47
FI (4件)：
C07C51/12 ,  C07C53/08 ,  C07C51/44 ,  C07C51/47
Fターム (21件)：
4H006AA02 ,  4H006AC46 ,  4H006AD11 ,  4H006AD17 ,  4H006BA03 ,  4H006BA24 ,  4H006BA37 ,  4H006BA49 ,  4H006BB14 ,  4H006BB15 ,  4H006BB17 ,  4H006BC10 ,  4H006BC11 ,  4H006BC40 ,  4H006BD60 ,  4H006BD84 ,  4H006BE40 ,  4H006BE60 ,  4H006BS10 ,  4H039CA65 ,  4H039CF30
引用特許：
審査官引用 (8件)
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