特許
J-GLOBAL ID:200903090074818344
酢酸の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後藤 幸久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-377223
公開番号(公開出願番号):特開2006-182691
出願日: 2004年12月27日
公開日(公表日): 2006年07月13日
要約:
【課題】 反応系の水濃度が低く水素分圧が低くても、反応速度を低下させることなく、副生成物の生成を低減できる酢酸の製造法を提供する。【解決手段】 ロジウム触媒、ヨウ化物塩、ヨウ化メチル、酢酸メチル及び水の存在下、連続的にメタノールと一酸化炭素とを反応させ、反応液中のアセトアルデヒド濃度を500ppm以下に保ちつつ、酢酸を11mol/L・hr以上の生成速度で製造する方法であって、反応器気相部の一酸化炭素分圧が1.05MPa以上の条件、又は反応液中の酢酸メチル濃度が2重量%以上の条件で反応を行い、アセトアルデヒドの生成速度を酢酸の生成速度の1/1500以下に維持することを特徴とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
ロジウム触媒、ヨウ化物塩、ヨウ化メチル、酢酸メチル及び水の存在下、連続的にメタノールと一酸化炭素とを反応させ、反応液中のアセトアルデヒド濃度を500ppm以下に保ちつつ、酢酸を11mol/L・hr以上の生成速度で製造する方法であって、反応器気相部の一酸化炭素分圧が1.05MPa以上の条件、又は反応液中の酢酸メチル濃度が2重量%以上の条件で反応を行い、アセトアルデヒドの生成速度を酢酸の生成速度の1/1500以下に維持することを特徴とする酢酸の製造方法。
IPC (3件):
C07C 51/10
, C07C 51/44
, C07C 53/08
FI (3件):
C07C51/10
, C07C51/44
, C07C53/08
Fターム (19件):
4H006AA02
, 4H006AC46
, 4H006AD11
, 4H006AD17
, 4H006BA02
, 4H006BA03
, 4H006BA24
, 4H006BA37
, 4H006BA49
, 4H006BB17
, 4H006BB31
, 4H006BC11
, 4H006BC18
, 4H006BD32
, 4H006BD52
, 4H006BE40
, 4H006BS10
, 4H039CA65
, 4H039CF30
引用特許:
出願人引用 (9件)
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特公昭47-3334号公報
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特開昭60-54334号公報
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特開昭60-239434号公報
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審査官引用 (4件)