反射防止膜、光学系、光学機器、及び反射防止膜の成膜方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：斎藤圭介 , 平山巌
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-122734
公開番号（公開出願番号）：特開2013-250295
特許番号：特許第6202785号
出願日： 2012年05月30日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
請求項（抜粋）：

【請求項1】高屈折率物質と、前記高屈折率物質より屈折率が低い低屈折率物質と、を基板上に交互に積層し、前記低屈折率物質より屈折率が低い超低屈折率物質を最表層に積層して12層とした反射防止膜であり、前記基板から11番目の層の光学膜厚は、前記反射防止膜の全体の光学膜厚の4%以下であることを特徴とする反射防止膜。

IPC (2件)：