【請求項1】セラミックス基板と、該セラミックス基板の一方の面に形成された回路層と、前記セラミックス基板の他方の面に形成された金属層と、を備え、
前記金属層は、アルミニウム又はアルミニウム合金からなるアルミニウム板が前記セラミックス基板の他方の面に接合されて構成されており、
前記回路層は、銅又は銅合金からなる銅板が前記セラミックス基板の一方の面にろう付けされて構成されており、
前記銅板は半導体素子が接合されるダイパッドと、前記ダイパッドから延出するリード部と、前記リード部を連結するガイド枠と、を有しており、前記銅板の前記ダイパッドが前記セラミックス基板の一方の面にろう付けされており、
前記回路層の厚さt1と前記金属層の厚さt2との関係が、t1
IPC (5件):
H01L 23/48 ( 200 6.01)
, H01L 23/36 ( 200 6.01)
, H01L 25/07 ( 200 6.01)
, H01L 25/18 ( 200 6.01)
, H01L 23/12 ( 200 6.01)
FI (4件):
H01L 23/48 G
, H01L 23/36 C
, H01L 25/04 C
, H01L 23/12 J
引用特許:
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (13件)
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