ブロックコポリマーの秩序化

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：高岡亮一 , 小田直 , 岩堀明代 , 高橋香元
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-556766
公開番号（公開出願番号）：特表2017-514671
出願日： 2015年03月13日
公開日（公表日）： 2017年06月08日
要約：

ブロックコポリマーを秩序化させるための方法であって、第1の優先モードを有する第1の層を形成することと、第1の層の選択された領域を第2の優先モードに改質する反応剤を前記選択された領域に提供することとを含み、選択された領域が、第1の優先モードを保持している第1の層の他の領域を画定し、これにより、ブロックコポリマーのためのアライメント層を形成する、方法である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ブロックコポリマーを整列及び配向させる方法であって、 a)ブロックA及びブロックBの繰り返し単位を備えるブロックコポリマー、基板、及び層を形成するための材料を提供することと、 b)前記ブロックコポリマーのブロックAを優先的にぬらすか、又は中性であって前記ブロックコポリマーのどのブロックも優先的にぬらさない、反応剤キャリアを含む第1の層を、前記基板上に形成することと、 c)前記第1の層の上に及び隣接してブロックコポリマー層を形成することと、 d)前記ステップc)の前又は後に、選択された領域の優先的ぬれを改質するために、照射された前記反応剤キャリアが前記第1の層の選択された領域に反応剤を提供するパターンで前記第1の層の前記反応剤キャリアに選択的に照射することと、 e)組織化体をもたらすべく前記ブロックコポリマー層の上にトップコートを塗布することと、 f)前記ブロックコポリマーを配向及び整列させるべく前記組織化体を処理することと、を含む、方法。

IPC (4件)：

B05D 7/24 , H01L 21/027 , B05D 3/02 , B05D 3/10

FI (4件)：

B05D7/24 302Z , H01L21/30 502D , B05D3/02 Z , B05D3/10 Z

Fターム (14件)：

4D075AE03 , 4D075BB20Z , 4D075BB29Z , 4D075BB44X , 4D075BB45X , 4D075DA06 , 4D075DB01 , 4D075DB13 , 4D075DB14 , 4D075DC22 , 4D075EB43 , 4D075EB46 , 4D075EC07 , 5F146AA28

引用特許：

審査官引用 (6件)

パターン形成方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-103332 出願人：信越化学工業株式会社
薄膜ブロックコポリマーの配向性の制御のための無水コポリマートップコート
公報種別：公表公報出願番号：特願2014-556678 出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
下層組成物および下層を像形成する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-211852 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー., ダウグローバルテクノロジーズエルエルシー

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