特許
J-GLOBAL ID：201703009114962096

基板液処理装置、基板液処理方法および記憶媒体

発明者：
田 中 裕 司

田 中 裕 司 について

, 
平 山 司

平 山 司 について

, 
稲 田 尊 士

稲 田 尊 士 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (5件)： 永井 浩之 ,  中村 行孝 ,  佐藤 泰和 ,  朝倉 悟 ,  森 秀行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-115601
公開番号（公開出願番号）：特開2017-220618
出願日： 2016年06月09日
公開日（公表日）： 2017年12月14日
要約：
【課題】リン酸水溶液の濃度を変化させることなく、リン酸水溶液の沸騰状態を一定に保って、エッチング均一性を図る。【解決手段】基板液処理装置1は液処理部39と、処理液循環ライン42と、液処理部39の処理槽34に設けられた沸騰状態検出部70とを有する。沸騰状態検出部70からの信号に基づいて制御部7は、処理液循環ライン42の供給ポンプ51を制御し、供給される流路内のリン酸水溶液の圧力を調整してリン酸水溶液の沸騰状態を所望の状態に調整する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
リン酸水溶液からなる処理液および基板を収納するとともに、当該処理液を用いて前記基板を処理する液処理部と、 前記液処理部に対して前記処理液を供給する供給ポンプを含む処理液供給部と、 前記液処理部に設置され、前記処理液の沸騰状態を検出する沸騰状態検出部と、 前記沸騰状態検出部からの信号に基づいて前記供給ポンプを制御して前記処理液供給部から前記液処理部へ供給される流路内の処理液の圧力を調整する制御部とを備えたことを特徴とする基板液処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/304
FI (5件)：
H01L21/306 J ,  H01L21/304 642A ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/306 D
Fターム (46件)：
5F043AA35 ,  5F043BB23 ,  5F043DD05 ,  5F043DD06 ,  5F043DD07 ,  5F043DD30 ,  5F043EE21 ,  5F043EE24 ,  5F043EE27 ,  5F043GG10 ,  5F157AA30 ,  5F157AA76 ,  5F157AB03 ,  5F157AB13 ,  5F157AB34 ,  5F157AB48 ,  5F157AB51 ,  5F157AC01 ,  5F157AC43 ,  5F157AC44 ,  5F157AC45 ,  5F157BB02 ,  5F157BB04 ,  5F157BB09 ,  5F157BB66 ,  5F157BC12 ,  5F157BC13 ,  5F157BE12 ,  5F157BE48 ,  5F157CB03 ,  5F157CB14 ,  5F157CC02 ,  5F157CD33 ,  5F157CD34 ,  5F157CE36 ,  5F157CE37 ,  5F157CF04 ,  5F157CF34 ,  5F157CF42 ,  5F157CF72 ,  5F157CF74 ,  5F157DB03 ,  5F157DB37 ,  5F157DC82 ,  5F157DC85 ,  5F157DC86
引用特許：
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM