特許
J-GLOBAL ID：201603019254693719
加熱されたエッチング液を提供するためのプロセシングシステムおよび方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
伊東 忠重
, 伊東 忠彦
, 大貫 進介
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-502185
公開番号（公開出願番号）：特表2016-513887
出願日： 2014年03月13日
公開日（公表日）： 2016年05月16日
要約：
プロセスチャンバ中でウエハを処理するために使用されるエッチング液の独立した温度および水和制御のための、方法およびプロセシングシステムが提供される。前記方法は、前記エッチング液を循環ループ中で循環させること、水を添加することまたは前記エッチング液から水を除去することにより、前記エッチング液を水和設定値に維持すること、前記循環ループ中で前記エッチング液の沸点より低い温度設定値に、前記エッチング液を維持すること、および前記ウエハを処理するために、前記プロセスチャンバ中に前記エッチング液を分注すること、を含む。一実施形態において、前記分注することには、前記プロセスチャンバ中で前記ウエハに近接するプロセシング領域中に前記エッチング液を分注すること、前記プロセスチャンバ中で前記ウエハから取り除かれた外部領域中に蒸気を導入すること、および前記エッチング液および前記蒸気で前記ウエハを処理すること、が含まれる。
請求項（抜粋）：
プロセスチャンバ中でウエハを処理するために使用されるエッチング液の独立した温度および水和制御を提供する方法であって、前記方法は、以下:
前記エッチング液を第1循環ループ中で循環させること;
水を添加することまたは前記エッチング液から水を除去することにより、前記エッチング液を水和設定値に維持すること;
前記第1循環ループ中で前記エッチング液の沸点より低い温度設定値に、前記エッチング液を維持すること;および
前記ウエハを処理するために、前記プロセスチャンバ中に前記エッチング液を分注すること、
を含む、方法。
IPC (2件)：
H01L 21/306
, H01L 21/308
H01L21/306 J
, H01L21/308 E
5F043AA35
, 5F043BB23
, 5F043DD07
, 5F043EE02
, 5F043EE21
, 5F043EE22
, 5F043EE23
, 5F043EE24
, 5F043EE25
