特許
J-GLOBAL ID：201703010452601552

液浸リソグフラフィ装置用の移送領域を含む環境システム

発明者：
ノヴァク, トーマス, ダブリュ.

ノヴァク, トーマス, ダブリュ. について

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ハゼルトン, アンドリュー, ジェイ.

ハゼルトン, アンドリュー, ジェイ. について

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ワトソン, ダグラス, シイ.

ワトソン, ダグラス, シイ. について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (3件)： 大野 聖二 ,  小林 英了 ,  大谷 寛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-227059
公開番号（公開出願番号）：特開2017-037350
出願日： 2016年11月22日
公開日（公表日）： 2017年02月16日
要約：
【課題】光アセンブリとデバイスの間のギャップの環境を制御する環境システムは、流体バリア、液浸流体システム、及び移送領域を含む。移送領域は、ギャップから出る液浸流体を捕え流体の漏出を防ぐとともに、デバイス及び/又は光学アセンブリを変形させる可能性のある直接的な減圧吸引をデバイスに使用することを回避する環境システムを提供する。【解決手段】流体バリア254は、デバイスの近くに位置付けられ、移送領域をギャップの近くに維持する。液浸流体システム252は、ギャップ246を充たす液浸流体248を供給する。移送領域は、流体バリア254、及びデバイスの近くにある液浸流体248の少なくとも一部をデバイスから離れるように移送する。液浸流体システム252は、移送領域256と流通している流体除去システム282を含むことができる。移送領域256は多孔性材料で製作できる。【選択図】図2B
請求項（抜粋）：
ワークピースを保持するように構成されたステージと、 像を規定するレチクルを保持するように構成されたレチクルステージと、 照明源及び光学素子を含む投影システムであって、レチクルによって規定された像を前記ワークピース上の露光領域に投影するように構成された投影システムと、 前記光学素子と前記ワークピースの間のギャップであって、液浸流体で充たされるように構成されたギャップと、 前記ギャップに隣接して位置付けられた多孔性材料であって、前記ギャップから出る液浸流体を捕集する複数の通路を有する多孔性材料とを備えた装置。
IPC (1件)：
G03F 7/20
FI (1件)：
G03F7/20 521
Fターム (9件)：
2H197AA09 ,  2H197AA12 ,  2H197DB16 ,  2H197DB26 ,  2H197DB27 ,  2H197DB29 ,  2H197HA03 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (7件)
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