特許

J-GLOBAL ID：201703011443867074

封止膜を堆積するための方法

発明者： チェン ジュリヤン ジェリー ,  ウォン タエ キュング ,  パク べオム スー ,  チョイ ヤング ジン ,  チョイ スー ヤング
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 安齋 嘉章
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-557847
特許番号：特許第6082032号
出願日： 2013年02月15日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 ケイ素含有ガス、第1窒素含有ガス、第2窒素含有ガス及び水素ガスを含むガス混合物を処理チャンバ内に送出する工程と、 処理チャンバ内に配置された基板の上方に800ミル〜1800ミル離間したガス分配プレートアセンブリに、0.350ワット/cm2〜0.903ワット/cm2を印加することによって、処理チャンバ内でガス混合物を励起させる工程と、 処理チャンバ内で励起したガス混合物を0.5トール〜3.0トールの圧力に維持する工程と、 励起したガス混合物の存在下で基板上に第1無機封止膜を堆積させる工程と、 第1無機封止膜上に接して有機誘電体層を堆積させる工程とを含む封止膜の形成方法。

IPC (5件)：

C23C 16/42 ( 200 6.01) ,  C23C 16/509 ( 200 6.01) ,  H01L 51/50 ( 200 6.01) ,  H05B 33/04 ( 200 6.01) ,  H01L 21/318 ( 200 6.01)

FI (5件)：

C23C 16/42 ,  C23C 16/509 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/04 ,  H01L 21/318 B

引用特許：

出願人引用 (4件)

• カプセル化膜の遮水性能の改善
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-518097   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• パッシベーション用途のための低温プロセス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-558687   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• バリア性フィルム基板およびそれを用いた有機電界発光素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-218246   出願人：富士フイルム株式会社
• 無機層の真空成膜法、バリア性積層体、デバイスおよび光学部材
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-067542   出願人：富士フイルム株式会社

審査官引用 (2件)

• カプセル化膜の遮水性能の改善
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2007-518097   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
• パッシベーション用途のための低温プロセス
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-558687   出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド