特許

J-GLOBAL ID：201703012101547244

放射源

発明者： ヤクニン,アンドレイ ,  イワノフ,ヴラディミア ,  ヴァン スホート,ジャン ,  クリヴツン,ヴラディミア ,  スウィンケルズ,ゲラルドス ,  メドベーデフ,ヴィアシェスラフ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-527562
特許番号：特許第6084223号
出願日： 2012年08月01日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 リソグラフィ装置のイルミネータに放射ビームを提供するのに適した放射源であって、 燃料小滴の流れを軌道に沿ってプラズマ形成位置へと誘導するノズルを備え、 前記放射源は、第1の量の放射が前記プラズマ形成位置で燃料小滴に入射するように、及び、前記第1の量の放射がエネルギーを前記燃料小滴に伝達して改質燃料分布を生成するように、前記第1の量の放射を受け、前記改質燃料分布は表面を有し、 前記放射源は、前記表面の一部に対してp偏光された成分を有する第2の量の放射が前記改質燃料分布の前記表面の一部に入射するように、及び、前記第2の量の放射が前記改質燃料分布にエネルギーを伝達して第3の量の放射を放出する放射生成プラズマを生成するように、前記第2の量の放射を受け、 前記放射源は、前記第3の量の放射の少なくとも一部を集光し誘導するコレクタをさらに備え、 前記放射源は、前記改質燃料分布の前記表面の前記一部への法線に対して平行ではない第1の方向に前記第2の量の放射が伝搬するように構成される、放射源。

IPC (2件)：

G03F 7/20 ( 200 6.01) ,  H05G 2/00 ( 200 6.01)

FI (2件)：

G03F 7/20 503 ,  H05G 2/00 K

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 先行パルスにより強化されたレーザ生成プラズマEUV光源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-094892   出願人：ノースロップ・グラマン・コーポレーション
• 検出素子及び画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-075052   出願人：キヤノン株式会社
• EUV光の放射方法、および前記EUV光を用いた感応基板の露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-277964   出願人：国立大学法人大阪大学, 財団法人レーザー技術総合研究所
• 極端紫外光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-284539   出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社

審査官引用 (4件)

• 先行パルスにより強化されたレーザ生成プラズマEUV光源
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-094892   出願人：ノースロップ・グラマン・コーポレーション
• 検出素子及び画像形成装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-075052   出願人：キヤノン株式会社
• EUV光の放射方法、および前記EUV光を用いた感応基板の露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-277964   出願人：国立大学法人大阪大学, 財団法人レーザー技術総合研究所
• 極端紫外光源装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-284539   出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社