プラズマ処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人酒井国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-021181
公開番号（公開出願番号）：特開2017-139428
出願日： 2016年02月05日
公開日（公表日）： 2017年08月10日
要約：

【課題】載置台近傍の電界強度の均一性を向上すること。【解決手段】プラズマ処理装置は、内部にプラズマ励起用の電磁波が供給される処理容器と、処理容器の内部に設けられ、被処理体が載置される載置台と、載置台を構成する複数の部材のうち、電磁波を透過させる誘電体部材の一部に形成された複数の挿入部の各々に挿入され、誘電体部材と被連結部材とを連結する第1の連結部材と、第1の連結部材を覆うように複数の挿入部の各々に装着され、誘電体部材の誘電率と略同一の誘電率を有する誘電体製のキャップとを備える。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

内部にプラズマ励起用の電磁波が供給される処理容器と、前記処理容器の内部に設けられ、被処理体が載置される載置台と、前記載置台を構成する複数の部材のうち、前記電磁波を透過させる誘電体部材の一部に形成された複数の挿入部の各々に挿入され、前記誘電体部材と被連結部材とを連結する第1の連結部材と、前記第1の連結部材を覆うように前記複数の挿入部の各々に装着され、前記誘電体部材の誘電率と略同一の誘電率を有する誘電体製のキャップとを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/306 , H01L 21/205 , C23C 16/458 , C23C 16/505 , H05H 1/46

FI (6件)：

H01L21/302 101G , H01L21/302 101D , H01L21/205 , C23C16/458 , C23C16/505 , H05H1/46 B

Fターム (33件)：

2G084AA01 , 2G084CC14 , 2G084DD04 , 2G084DD19 , 2G084DD37 , 2G084DD38 , 2G084DD42 , 2G084DD56 , 2G084DD61 , 2G084FF06 , 2G084FF14 , 2G084FF32 , 2G084FF33 , 2G084FF38 , 2G084FF39 , 2G084FF40 , 4K030CA04 , 4K030CA12 , 4K030FA01 , 4K030GA02 , 4K030KA46 , 4K030LA15 , 5F004AA01 , 5F004BB14 , 5F004BB22 , 5F004BB29 , 5F004CA06 , 5F045AA08 , 5F045AA09 , 5F045BB02 , 5F045EH02 , 5F045EH04 , 5F045EH08

引用特許：

審査官引用 (6件)

耐浸蝕性のネジを有したプラズマ反応室
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-022552 出願人：プロモステクノロジーインコーポレイテッド, モーゼルバイテリックインコーポレイテッド, ジーメンス・アー・ゲー
ネジキャップおよび処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-276934 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開昭63-107024

全件表示

前のページに戻る