特許
J-GLOBAL ID：201703012577539797

光酸発生化合物およびそれを含むフォトレジスト組成物、そのフォトレジストを含むコーティングされた物品、並びに物品を製造する方法

発明者：
イマッド・アカッド

イマッド・アカッド について

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チェン-バイ・スー

チェン-バイ・スー について

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コン・リュー

コン・リュー について

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ミンキ・リー

ミンキ・リー について

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ヤマダ,シンタロウ

ヤマダ,シンタロウ について


出願人/特許権者：
ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー

ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-187367
公開番号（公開出願番号）：特開2017-061452
出願日： 2016年09月26日
公開日（公表日）： 2017年03月30日
要約：
【課題】水性および非水性溶剤の両方において制御された溶解性特性、ならびに拡散制御およびレジストプロファイルなどの特性を有する、光酸発生剤の提供。【解決手段】式(Id)を有する化合物。(aは1〜10の整数;X1はC3-10フルオロアルコール基;Ar2は置換/非置換フェニレン、ナフチレン、アントラセニレン、フェナントレニレン、キノリニレン、ジベンゾチオフェニレン、チオキサントン、チオキサンテニレン等;Yは一重結合、C1-20アルキレン基、O、S、エステル、カルボナート、スルホナート、スルホン又はスルホンアミド;R3は置換/非置換C5-20アリール又は1-20アルキル;Z-はカルボキシラート、スルファート、スルホナート、スルファマート又はスルホンイミドのアニオン;但し、Yが一重結合である場合、Z-はスルホナートではない)【選択図】なし
請求項（抜粋）：
式(Id)を有する化合物:
IPC (7件)：
C07D 327/08 ,  C07C 309/12 ,  C07D 333/76 ,  C07D 335/16 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/20
FI (7件)：
C07D327/08 ,  C07C309/12 ,  C07D333/76 ,  C07D335/16 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/20 521
Fターム (35件)：
2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CE01 ,  2H197CE10 ,  2H197JA21 ,  2H197JA22 ,  2H225AF23P ,  2H225AF24P ,  2H225AF44P ,  2H225AF53P ,  2H225AF68P ,  2H225AH15 ,  2H225AH19 ,  2H225AJ13 ,  2H225AJ54 ,  2H225AJ59 ,  2H225AL03 ,  2H225AL11 ,  2H225AM66P ,  2H225AN11P ,  2H225AN39P ,  2H225AN51P ,  2H225AN56P ,  2H225AN82P ,  2H225BA01P ,  2H225BA26P ,  2H225BA32P ,  2H225CA12 ,  2H225CB09 ,  2H225CC03 ,  2H225CC15 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB92
引用特許：
審査官引用 (4件)
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